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技術(shù)文章

hellma PX5BSSGNAALD240G 技術(shù)參數(shù)

閱讀:204          發(fā)布時(shí)間:2023-8-9

Hellma材料CaF2多年來一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)的光刻中的光學(xué)關(guān)鍵材料。CaF2被確立為投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料,。CaF2的光學(xué)特性使其能夠用于各種*應(yīng)用,。





應(yīng)用程序

Hellma Materials CaF2由于其的光學(xué)質(zhì)量和在UV、VIS和IR光譜范圍內(nèi)的優(yōu)異透射率,,可用于多種用途:



紅外光學(xué)

天文儀器光學(xué)

天基光學(xué)

顯微鏡光學(xué)

光譜學(xué)

紫外線光學(xué)

激光窗口

準(zhǔn)分子激光光學(xué)

微光刻光學(xué)

優(yōu)點(diǎn)

Hellma Materials的Lithtec®CaF2具有的光學(xué)特性:



從深紫外到紅外的高寬帶透射率(130nm到8µm)

低折射率(nd=1.43384)

低光譜色散(vd=95.23)

Excimer激光光學(xué)器件的激光耐久性(157nm,、193nm、248nm)

合格的高能粒子和輻射抗性

直徑可達(dá)420mmHellma材料CaF2多年來一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)的光刻中的光學(xué)關(guān)鍵材料,。CaF2被確立為投影和照明光學(xué)中準(zhǔn)分子激光光學(xué)的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料,。CaF2的光學(xué)特性使其能夠用于各種*應(yīng)用。





應(yīng)用程序

Hellma Materials CaF2由于其的光學(xué)質(zhì)量和在UV,、VIS和IR光譜范圍內(nèi)的優(yōu)異透射率,,可用于多種用途:

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