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加氫反應裝置具備反應系統(tǒng),，加熱系統(tǒng)和控制系統(tǒng),，氣體進料系統(tǒng)，液體進料系統(tǒng),，反應釜全容積為100毫升,，加熱方式為電加熱，在線數據采集記錄保存,，采集對象：反應釜內部溫度,，加熱爐溫度,，反應釜內部壓力,，攪拌速度，控制進料流量,，進氣流量,。

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主要參數及技術說明

反應釜結構：間歇式,；釜蓋密封形式：O型圈密封,；攪拌密封形式：磁耦合密封,；反應釜全容積：100ml；反應釜用才（釜體釜蓋）：哈氏合金C276,；管閥件316L不銹鋼,；用戶操作溫度：200℃；反應釜設計溫度：250℃,；用戶操作壓力：30bar,；反應釜最高使用壓力：100bar；加熱方式：電加熱,；溫度控制：正負1℃以內（物料無強放熱吸熱的情況下）,；攪拌形式：自吸推進攪拌

裝置整體包括反應單元、加熱單元和控制單元,。

反應單元100ml反應釜釜蓋固定,，釜體電動升降，釜體電加熱,，加熱爐外層預設不銹鋼外殼保溫層,，上出料，釜蓋配備2個氣相閥門,，1個液相閥,，1個安全爆破片，1個機械測壓表,，1個壓力傳感器,，1個溫度傳感器，1個磁耦合攪拌器,，1套氣體質量流量計

加熱單元,，加熱采用電加熱，加熱爐包裹反應釜體,，靠熱傳導輻射給反應釜內部物料加熱,，加熱爐外層預設不銹鋼外殼保溫層。

控制單元,，溫度控制：主控物料溫度,，反應釜內物料無強放熱吸熱情況下可將物料溫控控制在正負1℃

攪拌控制：磁耦合攪拌轉速控制范圍200~1000r/min，攪拌轉速控制誤差為0~5r/min,。升降控制：可控制加熱爐和反應釜釜體勻速上升下降,，上下設有光電開關，防止上升下降過多

數據采集和保存：反應數據可采集記錄保存,，包括反應溫度,，加熱爐溫度，反應壓力，攪拌轉速,，可在線設定加熱時間,，攪拌時間。