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1052次應(yīng)用范圍：
1,， 半導(dǎo)體制造工業(yè)
2,， 設(shè)備應(yīng)用
A. 曝光顯影設(shè)備 (涂膠，顯影) 光刻加工程序的主要設(shè)備及掌控涂層,，曝光,，顯影。
B. 清洗,、蝕刻設(shè)備 用于蝕刻,，清洗，去膜設(shè)備,。
C. 清洗設(shè)備 適用于 物理沖洗清潔,、顆粒清洗刷子、聲控及噴霧工藝,。
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