低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載,、印刷機,、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置,、離子鍍裝置,、蝕刻裝置、單晶片處理裝置,、切片機,、包裝機、顯影劑的溫度管理,、露光裝置,、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工,、熔接機的發(fā)熱部分,、激光標志裝置、發(fā)生裝置,、二氧化碳激光加工機等起到很大作用,。
低溫恒溫循環(huán)器的產(chǎn)品介紹
提供-40℃~105℃溫度范圍內(nèi)的高、低恒溫液體，以滿足用高,、低溫做反應的恒溫儀器的需要,。
特別適用與化學反應釜、發(fā)酵罐,、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器,、電子顯微鏡、阿貝折先儀,、蒸發(fā)皿,、生物制藥反應器等實驗設(shè)備配套使用。
*內(nèi)循環(huán)和外循環(huán)泵系統(tǒng),，內(nèi)循環(huán)使儀器溫度均勻恒定,，外循環(huán)泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體,。8升~40升的工作槽容積內(nèi)還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器,，直接進行高低溫試驗或測試，實現(xiàn)一機多用
低溫恒溫循環(huán)器的主要特點
●風冷式全封閉制冷壓縮機,降溫速度快,。
●微機智能控制,溫度溫度,。
●數(shù)顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能,。
●溫度超溫保護,自動切斷電源并報警,。
●制冷系統(tǒng)過熱、過流自動保護,。
