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GMD2000多糖核酸高剪切研磨均質(zhì)機采用了二級處理結(jié)構(gòu),，*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊,，第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子,，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G,、4M,、6F、8SF,，且定轉(zhuǎn)子精密度都達到了較良好水平,。公司有樣機可供客戶實驗，歡迎廣大新老客戶來我司參觀指導(dǎo),！

 GMD2000多糖核酸高剪切研磨均質(zhì)機是 SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,，我們 將三級變跟為一級,，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì),。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物 料要求進行更換（我們提供了2P，2G,，4M,，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）,。

工作原理：研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn),，被加工物料通過本身的重量或外 部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定,、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力,、摩擦力、高頻振動等物理作用,，使物料被有 效地乳化,、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果,。

研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒）,，所以在很多場合下,，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。

是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向,。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要,。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因 為在對輸送性的要求方面,，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度,、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,，還有一個很重要的區(qū)別 是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能,。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來 滿足一個具體的應(yīng)用,。在大多數(shù)情況下,，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要,。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用,。

    GMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小,，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨,。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,，具有精 細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,，凹槽在每級都可以改變方向,。高質(zhì)量的表面拋光和 結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求,。

設(shè)備等級：化工級,、衛(wèi)生S級、衛(wèi)生SS級,、無菌級
電機形式：普通馬達,、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達,、變頻防爆馬達,、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ,、440V/50HZ
電機選配件： PTG 熱保護,、降噪型
研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L ,、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐,、排污閥、變頻器,、電控箱,、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭,、螺口,、夾箍
研磨分散機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器