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當(dāng)前位置:> 供求商機(jī)> GMSD2000-氧化鋁水性漿料分散機(jī)
一、產(chǎn)品名稱:氧化鋁水性漿料分散機(jī),氧化鋁水性漿料高速分散機(jī),氧化鋁水性漿料納米分散機(jī),氧化鋁水性漿料超細(xì)分散機(jī),氧化鋁漿料分散機(jī)
二,、氧化鋁的核心應(yīng)用
氧化鋁具有硬度高,、化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),已被廣泛應(yīng)用在陶瓷,、無機(jī)膜,、研磨拋光材料等領(lǐng)域,。用作分析試劑、有機(jī)溶劑的脫水,、吸附劑,、催化劑、冶煉鋁的原料,、耐火材料,。
二、氧化鋁的分散問題
近年來,,已超細(xì)氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注,。但超細(xì)氧化鋁粉體比表面積大,表面活性高,,單個超細(xì)顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài),,顆粒之間因為相互吸引而團(tuán)聚,易于失去超細(xì)粉體*的性能,,因此超細(xì)氧化鋁粉體的分散,,是超細(xì)氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。
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在水溶液中,,氧化鋁漿料中的亞微米機(jī)微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團(tuán)聚,,出現(xiàn)絮凝,分層等現(xiàn)象,,破壞漿料的分散穩(wěn)定性,。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點(diǎn)。影響穩(wěn)定性的因素有很多,,如:分散劑種類及用量,、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì),、PH值,、溫度等。
當(dāng)物料工藝確定后,,影響分散穩(wěn)定性的*因素就是漿料中粒子的半徑,,半徑越小,沉降越慢,、穩(wěn)定性越高,。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備,來獲得更好的物料粒徑,,提高分散的均勻性,,推薦GMSD2000系列研磨分散機(jī),*的結(jié)構(gòu),,膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備,,14000rpm超高轉(zhuǎn)速,,效果好、效率高,。
(價格電議,,劉,,,,公司有樣機(jī)可實(shí)驗!)
四,、氧化鋁水性漿料分散設(shè)備推薦
結(jié)合多家化工企業(yè)案例,,我司推薦GMSD2000系列研磨式超高速分散機(jī)進(jìn)行氧化鋁的研磨和分散,一般可獲得超細(xì)的物料粒徑,,一般為2μm左右,。當(dāng)然還要看具體的物料工藝,以及原始狀態(tài),。
下圖為氧化鋁分散后的粒徑分布,,分散介質(zhì)為水。供參考,!
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五,、SGN氧化鋁水性漿料分散機(jī)結(jié)構(gòu)
氧化鋁水性漿料分散機(jī),是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備,,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,,強(qiáng)大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤,,先研磨后分散,。這種特殊的設(shè)計的優(yōu)勢在于,粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象,,所以此時分散十分重要,,而砂磨機(jī)難以分散。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料,。我們將高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三層變更為一級,,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì),。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,,2G,4M,,6F,,8SF等五種乳化頭供客戶選擇),。
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六、氧化鋁水性漿料分散機(jī)選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMSD2000/4 | 300 | 14000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 2000 | 7200 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 5000 | 2850 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 8000 | 1420 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
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