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納米粉體膠體磨,,納米粉體研磨設備,納米粉體膠體磨,,納米粉體研磨機,,納米粉體高速剪切膠體磨,納米膠體磨,,納米膠體磨
納米粉體的分散是基礎研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題,,其應用日益廣泛,如化工,、醫(yī)藥,、涂料、材料,、食品等,。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*,而且是十分重要的技術(shù)手段,。
但是由于納米粉體粒度小,,極易產(chǎn)生自發(fā)凝并,表現(xiàn)出強烈的聚團特性,,不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體,,聚團的結(jié)果導致納米粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面,,在復合材料的制備過程中,,由于納米粉體的這種強烈團聚特性和它與復合基體材料的極性差異,納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復合材料,,是復合材料的性能難以達到人們預期的效果,。
所以為了解決這一問題,各種類型的分散設備應運而生,,粉體的分散,、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散,,盡力使團聚粉體達到單粉體分散,;其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻,而在使用時需要性能均一的粉體材料,,為了消除各部分性能上的差異,,需要對粉體材料進行分散,、混合與均化處理;其三是,,有些粉體材料需要進行改性處理,,為了保證改性處理的均一性,也需要進行分散,、混合與均化處理,。更多信息請劉。
SGN膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液,、納米懸浮液和乳液的生產(chǎn),。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,GM2000在摩擦狀態(tài)下工作,,也就被稱做濕磨,。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,,分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,,因此可以達到更好的研磨分散的效果。
SGN膠體磨結(jié)構(gòu):
三道磨碎區(qū):一級為粗磨碎區(qū),,二級為細磨碎區(qū),,三級為超微磨碎區(qū)。
我們的磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,,每個磨頭的溝槽深度不一樣,,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣,,流道體積是一樣大,,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨,,而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果,。
GM2000系列高剪切膠體的特點:
1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽,。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
2,、齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,,范圍比較大,范圍越大,,處理的物料顆粒大小越廣,。
3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,。
GM2000系列設備選型表
型號 | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達功率 KW | 出/入口連接 |
GM2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GM2000/5 | 3,,000 | 6,,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GM2000/10 | 8,000 | 4,,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
GM2000/20 | 20,,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GM2000/30 | 40,,000 | 1,,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GM2000/50 | 80,,000 | 1,,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注:流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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