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貨物所在地:北京北京市
更新時(shí)間:2024-09-17 21:00:05
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作為zui早將激光共焦顯微鏡應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域的*和實(shí)踐者,,OLYMPUS在工業(yè)的激光共焦應(yīng)用領(lǐng)域積累了獨(dú)到的技術(shù),,并推出了的產(chǎn)品OLS4000 。
一,、主機(jī)性能
* 激光自動(dòng)聚焦,,對焦快速而精確;
* 自動(dòng)六孔物鏡換鏡轉(zhuǎn)盤,,可配套多種物鏡,;
* 標(biāo)準(zhǔn)配套100x100 mm 超聲波電動(dòng)載物臺(tái),可實(shí)現(xiàn)zui多500幅圖像自動(dòng)拼圖,;
* 標(biāo)準(zhǔn)配套5×,、10×、20×、50×和100×物鏡,,其中20×,、50×和100×物鏡均為405nm復(fù)消色差物鏡;
* 水平方向分辨率可達(dá)0.12μm,,Z軸方向分辨率達(dá)0.01μm,;
* 激光可以實(shí)現(xiàn)激光共焦、激光共焦微分干涉等觀察方式,;
* 激光光源為405nm半導(dǎo)體激光器,,安全等級CLASS2;
* 普通光源為3W 高亮LED光源,;
* 激光圖像感應(yīng)裝置為Photo multiplier(光電倍增管),;
* 微鏡調(diào)焦采用物鏡升降的方式,而非常見的載物臺(tái)升降調(diào)焦的方式,,可以zui大程度保證鏡體的穩(wěn)定性,;
* 主機(jī)具有自動(dòng)防震功能,不需搭配防震臺(tái)使用,;
* “一鍵”拍攝功能,,只一個(gè)按鍵即可自動(dòng)拍攝照片;
* 豐富多彩的2D/3D圖像顯示方式,,3D圖像通過鼠標(biāo)操控可自由旋轉(zhuǎn)和放大,;
* 自動(dòng)報(bào)告生成功能;
* 數(shù)字圖像處理,,可以實(shí)現(xiàn)邊緣增強(qiáng),、對比增強(qiáng)、濾波,、剖面校正,、快速傅立葉變換等功能;
* 可以實(shí)現(xiàn)對傾斜的樣品校正水平,;
* 自帶操作軟件可以實(shí)現(xiàn)中,、英、日,、德,、韓五種語言選擇
* 具備豐富的測量功能:可以實(shí)現(xiàn)長度、高度,、面積,、體積、粗糙度,、膜厚,、顆粒等多種測量,;
二、主要功能
1,、微觀二維形態(tài)圖像(2-D Morphologic)獲取
以405nm短波長半導(dǎo)體激光為光源,通過顯微鏡內(nèi)高精度掃描裝置對樣品表面的二維掃描,,獲得水平分辨率高達(dá)0.12μm的表面顯微圖像,同時(shí)通過CCD采集彩色圖像信息,,合成高分辨率真彩色形態(tài)(Morphologic)圖像,。目前,OLYMPUS采用*開發(fā)的MEMS(微機(jī)電)工藝制造的掃描系統(tǒng),,不僅壽命很長,而且精度更加可靠,。
2,、微觀三維形態(tài)圖像(3-D Morphologic)獲取
通過顯微鏡高精度步進(jìn)馬達(dá)驅(qū)動(dòng)和0.8nm光柵控制的聚焦裝置,運(yùn)用共聚焦技術(shù)(Confocal),,逐層獲取樣品各個(gè)二維圖像和焦面的縱向空間坐標(biāo),。經(jīng)計(jì)算機(jī)處理,將各個(gè)焦平面的顯微圖像疊加,獲得樣品表面的三維真實(shí)形態(tài)(近似SEM掃描電鏡的Morphologic圖像)。
3,、微觀三維輪廓與地形圖像(3-D Profile,,3-D Topography)獲取
將掃描獲得的樣品表面各個(gè)點(diǎn)的三維空間坐標(biāo)經(jīng)計(jì)算機(jī)處理后,可獲得垂直分辨率0.01μm的三維輪廓圖像(近似三維表面形貌儀的圖像)和三維地形圖像(近似AFM 原子力顯微鏡的圖像),。
4,、多種測量功能
可以測量亞微米級的線寬、面積,、體積,、臺(tái)階、線與面粗糙度,、透明膜厚,,幾何參數(shù)等測量數(shù)據(jù)??勺鳛楦呔葴y量設(shè)備,,符合計(jì)量追溯體系(ISO)。附加金相插件,,可做金相分析,。
5、OLS4000具備常規(guī)顯微鏡的功能,,多種觀察方法:BF,,DIC??缮壍皆恿︼@微鏡(AFM),。
三、應(yīng)用領(lǐng)域
1、材料科學(xué)
新材料研發(fā),,缺陷分析,,失效分析,傳統(tǒng)金相分析,。在材料行業(yè)中,,定位于zui的金相顯微鏡,具有分辨率高,、制樣要求,、同時(shí)可以做3D分析等優(yōu)勢,同時(shí)由于可以增加熱臺(tái)和金相分析軟件,,基本可以涵蓋金相的應(yīng)用要求,。
2、摩擦學(xué),、腐蝕等表面工程
磨痕的體積測量,,粗糙度測量,表面形貌,,腐蝕以及亞微米表面工程后的表面形貌,。
3、MEMS
微米和亞微米級部件的尺寸測量(深度測量范圍:0.05μm到3mm,,線寬測量范圍1μm-1.5mm),,
各種工藝(顯影、刻蝕,、金屬化,、CVD、PVD,、CMP等)后表面形貌觀察,,缺陷分析,透光膜厚測量(范圍1.0mm-1.0μm),。
4,、半導(dǎo)體/LCD
各種工藝(顯影、刻蝕,、金屬化,、CVD、PVD,、CMP等)后表面形貌觀察,,缺陷分析非接觸型的線寬,臺(tái)階深度等測量,,及GOLD BUMP的高度與表面粗糙度,。
5,、精密機(jī)械部件,電子器件
微米和亞微米級部件的尺寸測量,,各種表面處理,、焊接工藝后的表面形貌觀察,缺陷分析,,顆粒分析,。
6、高精密PCB制造
1) 激光鉆孔后的孔徑測量(亞微米到微米),,底部粗糙度,,形貌觀察。
2) 銅線高度(2-3μm),線寬(10-20μm或更細(xì))
3) 基板表面粗糙度,,三維形貌,。
7、化學(xué)薄膜(高分子等)厚度測量,、膜表面粗糙度測量
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