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三氟丙基修飾的有機-無機雜化二氧化硅膜制備(SiO2)

時間:2021-4-26閱讀:660
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三氟丙基修飾的有機-無機雜化二氧化硅膜制備(SiO2)

微孔 SiO2無機膜與有機膜相比,,具有和腐蝕、機械強度高,、污染小和使用壽命長等特點,,而且SiO2膜孔徑小,分布狹窄,,小分子氣體透過率高,在分離過程中不易受Knudsen擴散的并能夠順利實現(xiàn)分子篩分,,被認為是極有發(fā)展前景的氣體分離膜材料之—。

采用溶膠-凝膠(Sol-gel)法研制出氣體選擇透過性的SiO2膜,,但此膜材料的水熱穩(wěn)定性較差,歸咎于膜表面存在大量的羥基(Si-OH),,而羥基基團本身具有較強的親水性.當膜材料置于濕熱環(huán)境時,孔道表面羥基作為活性物理吸附中心吸附水蒸氣,,這會使二氧化硅膜繼續(xù)發(fā)生縮聚反應,,造成孔結構致密化甚至崩潰,嚴重影響膜材料的氣體滲透分離性能因此,降低膜表面羥基濃度以其疏水,,無疑是膜材料水熱穩(wěn)定性的途徑,。國內外研究表明,可采用表面修飾方法,,即在溶膠制備階段,,用疏水基團取代膜表面部分羥基來實現(xiàn).利用Sol-gel成功地將甲基(CH3)修飾到膜表面,制備了疏水性較好的微孔二氧化硅膜. 采用乙烯基,苯基對以正硅酸乙酯(TEOS)為前驅體制備的純二氧化硅膜進行了表面修飾,,研究表明不同疏水基團修飾后,,膜材料的疏水性均得以,并且具有較高的H2/CO2分離系數(shù). ]TEOS為硅源前驅體制備了碳氟基團表面修飾的疏水 SiO2膜材料,盡管H2/CO2分離系數(shù)可7.0,,但其H2滲透率較低.

基于TEOS的無機SiO2膜結構主要由溶膠-凝膠反應所得的-Si-O-Si-結構單元組成的低聚物經(jīng)過進一步縮合而得.而近期研究表明,,采用溶膠-凝膠在無機硅氧網(wǎng)絡結構中引入柔性的有機鏈段,得到有機-無機雜化二氧化硅膜材料,,可彌補無機二氧化硅柔軟度與厚度的缺陷,,有助于膜的韌性,并可涂層在成膜過程中的收縮開裂,,這是所謂的骨架修飾,。

不同TFPTMS修飾量的有機-無機雜化SiO2溶膠膠粒粒徑分布如圖1所示,從圖中可以看出,,沒有修飾有機-無機雜化 SiO2溶膠的粒徑較大(平均粒徑為7.59 nm),且粒徑分布較寬(3.1232.67 nm),、隨著TFPTMS修飾量的逐漸增加,有機-無機雜化SiO2溶膠的平均粒徑隨之減小,,且粒徑分布也逐漸變得狹窄,,當控制TFPTMS/BTESE的摩爾比為0.6 時,溶膠的粒徑小(平均粒徑為2.11 nm),,粒徑分布也較窄(0.96~5.62 nm).這是因為溶膠-凝膠反應主要包括前驅體的水解過程以及水解產(chǎn)物的縮聚/絡合過程,,從而形成具有空間網(wǎng)絡結構的低聚物粒子.所謂的溶膠膠粒指的便是這些低聚物粒子.BTESE的水解反應速度較快,生成大量Si-OH,了水解產(chǎn)物縮聚/絡合反應的進行,使生成的低聚物的聚合度增大,從而形成具有較大空間網(wǎng)絡結構的低聚物粒子,,故而其粒徑較大.TFPTMS的分子結構中存在不參與水解的三氟丙基基團,,可以發(fā)揮網(wǎng)絡改性的作用.

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