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光刻膠的光聚合反應(yīng)/水解反應(yīng)示意圖
光聚合反應(yīng)示意圖
光分解型光刻膠,,采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑,其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應(yīng),,可以制成正性光刻膠;光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,,在光的作用下,,形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),而起到抗蝕作用,,可以制成負(fù)性光刻膠,。
光分解反應(yīng)示意圖
在半導(dǎo)體集成電路光刻開始使用深紫外(DUV)光源以后,化學(xué)放大(CAR)逐漸成為行業(yè)應(yīng)用的主流,。在化學(xué)放大光刻膠中,,樹脂是具有化學(xué)基團(tuán)保護(hù)因而難以溶解的聚乙烯?;瘜W(xué)放大光刻膠使用光致酸劑(PAG)作為光引發(fā)劑,。
光交聯(lián)反應(yīng)示意圖
當(dāng)光刻膠曝光后,曝光區(qū)域的光致酸劑(PAG)將會產(chǎn)生一種酸,。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑,,將會移除樹脂的保護(hù)基團(tuán)從而使得樹脂變得易于溶解?;瘜W(xué)放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍,,對深紫外光源具有的光學(xué)敏感性,同時(shí)具有高對比度,,對高分辨率等優(yōu)點(diǎn),。
化學(xué)放大光反應(yīng)示意圖
按照曝光波長分類;光刻膠可分為紫外光刻膠(300~450nm),、深紫外光刻膠(160~280nm),、極紫外光刻膠(EUV,,13.5nm)、電子束光刻膠,、離子束光刻膠,、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠,,其適用的光刻分辨率不同,。通常來說,在使用工藝方法一致的情況下,,波長越短,,加工分辨率越佳。
產(chǎn)品供應(yīng):
產(chǎn)品 | 型號 | 光源 | 類型 | 分辨率 | 厚度(um) | 適用范圍 |
厚膠 Thick Resist | SU-8 GM10xx系列 | g/h/i-Line | 負(fù)性 | 0.1um | 0.1-200 | 具有較大的高寬比,,透明度高,,垂直度。 |
SU-8 Microchem | g/h/i-Line | 負(fù)性 | 0.5um | 0.5-650 | 具有較大的高寬比,,透明度高,,垂直度。 | |
SPR220 | g/h/i-Line | 正性 | 1um | 1—30 | 可用于選擇性電鍍電鍍,,深硅刻蝕等工藝,。 | |
NR26-25000P | g/h/i-Line | 負(fù)性 | 20-130 | 厚度大,相對容易去膠,。 | ||
電子束光刻膠 | 型號 | 光源 | 類型 | 分辨率 | 厚度(um) | 適用范圍 |
SU-8 GM1010 | 電子束 | 負(fù)性 | 100nm | 0.1-0.2 | 可用于做高寬比較大的納米結(jié)構(gòu),。 | |
HSQ | 電子束 | 負(fù)性 | 6nm | 30nm~180nm | 分辨率較好的光刻膠,抗刻蝕,。 | |
XR-1541-002/004/006 | ||||||
HSQ Fox-15/16 | 電子束 | 負(fù)性 | 100nm | 350nm~810nm | 分辨率較好的光刻膠,,抗刻蝕。 | |
PMMA(國產(chǎn)) | 電子束 | 正性 | \ | \ | 高分辨率,,適用于電子束光刻工藝,,較常用的電子束光刻正膠。 | |
PMMA() | 電子束 | 正性 | \ | \ | MicroChem,,分子量,,適用于電子束光刻工藝,較常用的電子束光刻正膠,。 | |
薄膠 | 型號 | 光源 | 類型 | 分辨率 | 厚度(um) | 適用范圍 |
S18xx系列 | g-Line | 正性 | 0.5um | 0.4-3.5 | 較常用的薄光刻膠,,分辨率高,穩(wěn)定,。 | |
SPR955系列 | i-Line | 正性 | 0.35um | 0.7-1.6 | 高分辨率(0.35um)光刻膠,,穩(wěn)定。 | |
BCI-3511 | i-Line | 正性 | 0.35um | 0.5-2 | 國產(chǎn)0.35um光刻膠,,已經(jīng)在量產(chǎn)單位規(guī)模使用,。 | |
NRD6015 | 248nm | 負(fù)性 | 0.2um | 0.7-1.3 | 國產(chǎn)深紫外光刻膠,,已經(jīng)在量產(chǎn)單位規(guī)模使用。 | |
Lift off光刻膠 | 型號 | 光源 | 類型 | 分辨率 | 厚度(μm) | 適用范圍 |
KXN5735-LO | g/h/i-Line | 負(fù)性 | 4μm | 2.2-5.2 | 負(fù)性光刻膠;倒角65-80°,,使用普通正膠顯影液顯影,。 | |
LOL2000/3000 | g/h/i-Line | / | NA | 130nm-300nm | 非感光性樹脂,可以被顯影液溶解,,作為lift off雙層膠工藝中底層膠使用,。 | |
ROL-7133 | g/h/i-Line | / | 4um | 2.8-4 | 負(fù)性光刻膠,倒角75~80°,,使用普通正膠顯影液,。 | |
光刻膠配套試劑 | 品名 | 主要成分 | 包裝 | 應(yīng)用 | / | / |
正膠顯影液 | TMAH 2.38% | 4LR/PC | 正膠顯影液 | / | / | |
正膠稀釋劑 | PGMEA | 4LR/PC | 稀釋劑 | / | / | |
SU8 顯影液 | PGMEA | 4L/PC | 顯影SU8光刻膠 | / | / | |
RD-HMDS | HMDS | 500ml/PC | 增粘劑 | / | / | |
OMNICOAT | 見MSDS | 500ml/PC | SU-8增粘劑 | / | / |
上述產(chǎn)品齊岳生物均可供應(yīng),用于科研,!
wyf 01.22
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