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公司動(dòng)態(tài)

SEMICON CHINA來了,,與優(yōu)尼康一起交流精密膜厚測(cè)量,!

閱讀:130          發(fā)布時(shí)間:2025-3-7

SEMICON CHINA來了,,與優(yōu)尼康一起交流精密膜厚測(cè)量!

SEMICON CHINA 2025半導(dǎo)體行業(yè)盛會(huì)將于3月26日至28日在上海新國(guó)際博覽中舉辦,。優(yōu)尼康攜多款精密測(cè)量設(shè)備參展,,歡迎新老朋友蒞臨觀展!


識(shí)別下方二維碼「預(yù)約報(bào)名參展」SEMICON

優(yōu)尼康展臺(tái)

時(shí)間:

3月26日 - 28日

地點(diǎn):上海

新國(guó)際博覽中心

展位號(hào):

N1-1343

優(yōu)尼康現(xiàn)場(chǎng)活動(dòng)預(yù)告

  • 全時(shí)段幸運(yùn)活動(dòng),!

  • 觀展填問卷領(lǐng)周邊,!

  • 提前預(yù)約到場(chǎng)有禮!

超多米家禮品等你現(xiàn)場(chǎng)解鎖

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部分參展設(shè)

F50 膜厚測(cè)量?jī)x

F50可以非常簡(jiǎn)單地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜厚度分布圖。采用r-θ 極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái),,可以快速定位所需的測(cè)試點(diǎn)并且實(shí)時(shí)獲得測(cè)試厚度,,大約每秒測(cè)試兩點(diǎn)。

相關(guān)應(yīng)用:半導(dǎo)體制造(光刻膠,、氧化物/氮化物/SOI,、晶圓背面研磨);LCD 液晶顯示器(聚酰亞胺,、ITO 透明導(dǎo)電膜),;光學(xué)鍍膜(硬涂層、抗反射層),;MEMS 微機(jī)電系統(tǒng)(光刻膠,、硅系膜層)。

P7 臺(tái)階儀

P-7可以對(duì)臺(tái)階高度,、粗糙度,、翹曲度和應(yīng)力進(jìn)行2D和3D測(cè)量,其掃描可達(dá)150mm而無需圖像拼接,。

相關(guān)應(yīng)用:薄膜/厚膜臺(tái)階,;蝕刻深度量測(cè);光阻/光刻膠臺(tái)階,;柔性薄膜;表面粗糙度/平整度表征,;表面曲率和輪廓分析,;薄膜的2D stress量測(cè),;表面結(jié)構(gòu)分析;表面的3D輪廓成像,;缺陷表征和缺陷分析,。

 R50四探針電阻率測(cè)量?jī)x

Filmetrics R50 系列提供接觸式四點(diǎn)探針 (4PP) 和非接觸式渦流 (EC)測(cè)量。最快 1 點(diǎn)/秒的速度映射導(dǎo)電膜的電阻率/電導(dǎo)率,。電動(dòng) X-Y 載物臺(tái)使用標(biāo)準(zhǔn)晶片吸盤定制樣品架,,最大可測(cè)量 300mm 的樣品,或200mm 的面積。

相關(guān)應(yīng)用:硅片摻雜;金屬層厚度測(cè)試;晶圓片電阻率測(cè)試

Bowman XRF鍍層測(cè)厚儀

在高度不超過9英寸的工件上具有優(yōu)于同類產(chǎn)品的 12 x12英寸可測(cè)量區(qū)域,。自動(dòng)多準(zhǔn)直器允許選擇光斑尺寸,,以適應(yīng)各種特征尺寸;可變焦攝像頭允許在 0.25 英寸到3.5 英寸的焦距范圍內(nèi)進(jìn)行測(cè)量。

相關(guān)應(yīng)用:材料折射率消光系數(shù)測(cè)試,;硅片自然氧化層厚度測(cè)試,;光刻膠光學(xué)常數(shù)測(cè)試;半導(dǎo)體后段封裝硅上金屬厚度測(cè)量

FS-1 多波長(zhǎng)橢偏儀

Film Sense FS-1多波長(zhǎng)橢偏儀采用壽命長(zhǎng) LED 光源和非移動(dòng)式部件橢偏探測(cè)器,可在操作簡(jiǎn)單的緊湊型橢偏儀中實(shí)現(xiàn)可靠地薄膜測(cè)量,。

相關(guān)應(yīng)用:二氧化硅和氮化物,,高介電和低介電材料,非晶和多晶材料,,硅薄膜,,光刻膠。高和低指數(shù)薄膜,,如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 ,。TCO(如 ITO),非晶硅薄膜,,有機(jī)薄 膜(OLED 技術(shù))等



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