化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備了一場新的拋光技術(shù)革命,，單純的化學(xué)拋光,，拋光速率較快，表面光潔度高,，損傷低,，性好，但表面平整度和平行度差,，拋光后表面一致性差；單純的機(jī)械拋光表面一致性好,，表面平整度高,，但表面光潔度差，損傷層深,；而化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備在進(jìn)行研磨拋光加工操作時(shí),，只需將被磨、拋材料放于平整的研磨盤上,，研磨盤逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng),，修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn)，重力加壓或其它方式對工件施壓,，工件與研磨盤作相對運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦,，來達(dá)到研磨拋光目的。

 

    測試和開發(fā)各種不同的微粒,，材料,，濃度，氧化劑,，抑制劑等的拋光液,，溝槽形狀，尺寸,，彈性,，壽命等,，測試和發(fā)展拋光墊調(diào)節(jié)裝置來優(yōu)化拋光墊的損耗率，修整,，效率等,，通過在晶圓墊和調(diào)節(jié)墊界面處的擁有的傳感器，測量負(fù)載和摩擦力,，在晶圓墊和調(diào)節(jié)墊界面處的擁有的傳感器和放大器,，測量接觸噪聲，使用聲波表征的缺陷,、劃痕,，并在加工過程中分層，化學(xué)機(jī)械研磨拋光設(shè)備進(jìn)行過程中,，拋光液對工件表面的化學(xué)腐蝕是拋光的*步,其腐蝕作用是拋光液和工件表面接觸時(shí),而新暴露出的工件表面,繼續(xù)被拋光化學(xué)腐蝕,，這種化學(xué)作用與機(jī)械作用的不斷重復(fù),使工件表面逐漸光滑,化學(xué)機(jī)械拋光過程綜合了化學(xué)和機(jī)械拋光的優(yōu)勢，單純的化學(xué)拋光,，拋光速率較快,，單純機(jī)械拋光一致性好,表面平整度高。