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選擇合適類型的X射線源是實現(xiàn)優(yōu)質成像和拓寬應用范圍的關鍵。 在上一期的推文中,，我們介紹了射線源「開管和閉管」的結構區(qū)別,，本期我們繼續(xù)為大家介紹「反射靶和透射靶」兩種射線源結構。

反射式靶

反射式靶的特點在于其靶面與入射電子束形成一定傾斜角度,。這種設計具有較大的散熱體積,，因此可以承受較高電壓的加速電子。反射式靶的優(yōu)勢在于能夠獲得更高的電子能量，從而產(chǎn)生更強的X射線輻射,。這對于需要高能量成像的應用場景非常重要,，例如：

· 汽車工業(yè)：檢測電子組件、電子控制單元,、微型機械裝置,、插頭和壓接件、電池盒等,。

· 航空航天領域：檢測機械組件（如閥或襟翼制動器）,、環(huán)向電子束焊（EB）焊縫、轉子葉片,、渦輪葉片,、飛機渦輪、電子組裝,、小型鈦和鋁鑄件,、復合材料等。

圖源網(wǎng)絡

透射式靶

透射式靶是一層薄膜,，其靶面與入射電子束垂直,。這種設計可以獲得更小的焦點尺寸和更大的輻射角度。透射式靶適用于需要高分辨率成像的場景,，例如：

· 材料科學中的微焦點X射線成像：透射式靶可用于研究材料的微觀結構和缺陷,。

圖源網(wǎng)絡

無論是「開管和閉管」，還是「反射靶和透射靶」,，不同的結構組合,，其成像質量、應用場景等各有不同,，我們建議用戶在選擇設備時,，一定要結合自身實際，充分考慮好檢測需求,，再選擇最合適的射線源,。只有根據(jù)實際情況做出明智的選擇，才能充分發(fā)揮X射線成像技術的潛力,，為各領域的檢測和研究提供精準,、高效的解決方案。