ES03是針對科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測量推出的高精度多入射角光譜橢偏儀,，儀器波長范圍從紫外到近紅外。

ES03多入射角光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如,，厚度）和物理參數(shù)（如,，折射率n、消光系數(shù)k）,，也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k,。

 ES03系列適合于對樣品進(jìn)行實(shí)時(shí)和非實(shí)時(shí)的檢測。

特點(diǎn)：

• 原子層量級的檢測靈敏度

  *的采樣方法,、高穩(wěn)定的核心器件,、高質(zhì)量的設(shè)計(jì)和制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了能夠測量原子層量級的納米薄膜，膜厚精度達(dá)到0.05nm,。

• 秒級的快速測量

  快速橢偏采樣方法,、高信噪比的信號探測、自動化的測量軟件,，在保證高精度和準(zhǔn)確度的同時(shí),，10秒內(nèi)快速完成一次全光譜橢偏測量。

• 膜厚測量范圍大

  膜厚范圍從次納米量級到10微米左右,。

• 一鍵式儀器操作

  對于常規(guī)操作,，只需鼠標(biāo)點(diǎn)擊一個(gè)按鈕即可完成復(fù)雜的測量、建模,、擬合和分析過程,，豐富的模型庫和材料庫也同時(shí)方便了用戶的高級操作需求。

應(yīng)用：

ES03適合于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制,。

ES03系列多種光譜范圍可滿足不同應(yīng)用場合。比如：

• ES03V適合于測量電介質(zhì)材料,、無定形半導(dǎo)體,、聚合物等的實(shí)時(shí)和非實(shí)時(shí)檢測,。
• ES03U適合于很大范圍的材料種類，包括對介質(zhì)材料,、聚合物,、半導(dǎo)體、金屬等的實(shí)時(shí)和非實(shí)時(shí)檢測,，光譜范圍覆蓋半導(dǎo)體的臨界點(diǎn),，這對于測量和控制合成的半導(dǎo)體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級到10微米左右）,。

ES03可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度,、折射率n及消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：微電子,、半導(dǎo)體,、集成電路、顯示技術(shù),、太陽電池,、光學(xué)薄膜、生命科學(xué),、化學(xué),、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲,、平板顯示,、聚合物及金屬表面處理等。

典型應(yīng)用如：

• 平板顯示：TFT,、OLED,、等離子顯示板、柔性顯示板等,；
• 功能性涂料：增透型,、自清潔型、電致變色型,、鏡面性光學(xué)涂層,，以及高分子、油類,、Al2O3表面鍍層和處理等,；
• 生物和化學(xué)工程：有機(jī)薄膜、LB膜,、SAM膜,、蛋白子分子層、薄膜吸附,、表面改性處理,、液體等

ES03也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k,。應(yīng)用領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體,、介質(zhì)等）,，或液體（純凈物或混合物）。典型應(yīng)用包括：

• 玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等,。

技術(shù)指標(biāo)：

   注：(1)測量重復(fù)性：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn),、同一條件下連續(xù)測量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。