振動對高級浸沒式光刻的影響
沒有使用STACIS®
在原基座的彈性體或剛性版本上獲得jia模式
使用STACIS®
STACIS主動隔振實現的模式
所示的45納米線寬測試圖形是由Amphibian Systems公司生產的*浸入式光刻系統(tǒng)生產的,，安裝在德克薩斯州*的SEMATECH公司。圖像之間的差異是由于地震振動對光刻過程的影響,。所顯示的圖像是使用掃描電子顯微鏡獲得的,。
該工具初安裝在鋼和混凝土基座上，基座采用鋼支撐結構,，其中包含商業(yè)彈性體隔振墊,。這個基座沒有達到工具要求的振動標準，模式質量很差,。
為了減少振動,，彈性體墊塊被有效地用金屬墊片短路，從而導致更剛性,、非共振結構,，但這幾乎沒有改善。振動標準不符合任何版本的基座和模式,，質量仍然很差,。
基座支撐結構被移除，并安裝了STACIS®主動壓電消振系統(tǒng),。STACIS基座被直接放置在現有的底座下面。將工具支撐在STACIS上,，顯著降低了整體地震振動水平,，并達到了制造商的地面振動規(guī)范。更重要的是,，STACIS在模式質量方面提供了顯著的改進,。
不同配置的振動測量。工具規(guī)格:0.125 mils /s RMS,。垂直軸數據顯示,。
綠色：彈性體減振
白色：短路彈性體減振
藍色：STACIS減振
*由Sematech提供的照片、圖像和振動數據,。
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