無掩膜激光直寫光刻系統(tǒng)

MicroWriter ML 優(yōu)勢(shì)

? 高分辨率：0.6μm

? 高書寫速度：180mm²/min

? 超廣基片尺寸兼容范圍：1mm x 1mm~230mm x 230mm

? 全自動(dòng)光路系統(tǒng)，用戶無需做任何復(fù)雜費(fèi)時(shí)的光路調(diào)節(jié)

• 通過15個(gè)激光同時(shí)平行工作，書寫速度達(dá)180min/min

• 高達(dá)600nm分辨率

• 樣品尺寸從1mm 到230 mm

• 對(duì)表面不平樣品自動(dòng)對(duì)焦補(bǔ)償

• 占地面積小

• 高性價(jià)比

MicroWriter ML^TM是一款設(shè)計(jì)的激光直寫光刻系統(tǒng),，不僅具有無掩模板直寫系統(tǒng)的靈活性,，還擁有高書寫速度和低成本的特點(diǎn)。15個(gè)藍(lán)光激光頭可以在電腦控制下進(jìn)行平行工作對(duì)基片上無需高分辨率的部分進(jìn)行高速書寫曝光,，之后自動(dòng)切換高分辨激光，并對(duì)需要高分辨的細(xì)節(jié)進(jìn)行加工,。這樣的設(shè)計(jì)在加工速度和分辨率之間取得了的平衡,，并通過軟件改變曝光圖案設(shè)計(jì)完整保證了其靈活性。

內(nèi)置自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)通過調(diào)節(jié)基片臺(tái)在Z方向的位置,，對(duì)基片上的紅色激光斑進(jìn)行自動(dòng)對(duì)焦,。只需單擊軟件上的對(duì)焦鍵就能完成對(duì)新放入的基片對(duì)焦。與一些其他自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)對(duì)基片zui小尺寸有要求不同,，MicroWriter ML^TM的自動(dòng)對(duì)焦可以用到極小的樣品上,，非常適用于對(duì)單個(gè)壓模的書寫。

對(duì)于表面不平的基片,，可以在曝光之前對(duì)其表面測(cè)繪,，之后進(jìn)行曝光的同時(shí)中可以自動(dòng)校正對(duì)焦。

確切的書寫速度取決于曝光圖案。大部分研發(fā)用圖案是由大面積區(qū)域（線,、帶,、塊）和少量的細(xì)小尺寸結(jié)構(gòu)組成的。MicroWriter ML^TM非常適用于這類應(yīng)用,。在這種情況下,，使用“turbo”模式，通過自動(dòng)結(jié)合高速平行書寫和高分辨書寫,，可以的得到180mm²/min的有效書寫速度,。對(duì)于需要進(jìn)行大面積細(xì)小結(jié)構(gòu)書寫的基片，曝光時(shí)間會(huì)相應(yīng)增長(zhǎng),。

zui大可以放入230mm直徑基片,，可以保證200mm x 200mm范圍內(nèi)的準(zhǔn)確曝光。zui小基片尺寸為 1mm²,?；烧婵諍A從底部固定，zui大基片厚度為15mm,。

基本配置包括一個(gè)1μm分辨率的激光頭和15個(gè)5μm分辨率的激光頭,。一個(gè)0.6μm分辨率的激光頭可以作為選件添加（OPT-HIRES）。上為分辨率測(cè)試結(jié)構(gòu)圖,。單臂結(jié)構(gòu)在半徑中點(diǎn)以外被區(qū)分出來,，4μm內(nèi)包括1μm臂寬和2μm的周期。

具有不同曝光性質(zhì)的多組曝光任務(wù)可以被結(jié)合起來,。例如,，用1μm激光得到一條微小的微米線，再用5μm激光得到大面積連接片并使其連接到微米線上,。：光學(xué)顯微圖（左）和掃描激光顯微圖（右）顯示通過兩個(gè)曝光任務(wù)（下圖）得到的微米線連接大尺寸連接片的圖形,。兩個(gè)圖片都是通過MicroWriter ML^TM內(nèi)置顯微鏡得到。

MicroWriter ML^TM內(nèi)置的Clewin 4掩模板設(shè)計(jì)軟件（見圖11）,，可以用于設(shè)計(jì)多層掩模板文件,，同時(shí)可以讀取多種標(biāo)準(zhǔn)圖形格式（DXF, CIF, GDSII, Gerber）的設(shè)計(jì)文件?；O(shè)計(jì)可以做步進(jìn)模擬,，比如設(shè)計(jì)一個(gè)單獨(dú)圖案然后在整個(gè)基片范圍內(nèi)重復(fù)運(yùn)用，或者對(duì)整個(gè)基片進(jìn)行整體設(shè)計(jì),，以便減少拼接誤差,。與電子束刻蝕系統(tǒng)不同，MicroWriter ML^TM不存在書寫范圍限制（取決于基片尺寸）,。為了簡(jiǎn)化掩模板設(shè)計(jì),，MicroWriter ML^TM可以直接讀取.TIFF,.BMP等圖片格式,。

絕大多數(shù)利用電子束刻蝕制造的器件只有很小的一部分結(jié)構(gòu)需要用到電子束刻蝕的高分辨率，而大部分曝光時(shí)間都浪費(fèi)在了如電極連接等大面積結(jié)構(gòu)的生成上,。MicroWriter ML^TM可以被用在混合模式刻蝕工藝上：只用費(fèi)用昂貴,、速度緩慢的電子束刻蝕加工zui細(xì)小的結(jié)構(gòu)，用成本低廉的MicroWriter ML^TM加工大面積部分,。MicroWriter ML^TM優(yōu)良的對(duì)準(zhǔn)機(jī)制可以使兩部工序*結(jié)合,。因此MicroWriter ML^TM也適用于已經(jīng)擁有電子束刻蝕的實(shí)驗(yàn)環(huán)境。

• 帶有19英寸支架高速控制器的XYZ三軸電機(jī)

• 200mm基片臺(tái),，帶有真空夾和真空泵

• 電子角度修正

• 1組1μm分辨率405nm激光直寫頭

• 15組5μm分辨率405nm激光直寫頭一套紅光照明對(duì)準(zhǔn)相機(jī)

• 一套鏡內(nèi)帶有光學(xué)反射探測(cè)器的激光掃描顯微鏡

• 一套半導(dǎo)體紅光激光自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)

• 自動(dòng)校正軟件和針孔傳動(dòng)探測(cè)器

• 溫度穩(wěn)定環(huán)境制備艙

• 被動(dòng)式壓縮空氣減震系統(tǒng)

• 64-bit Winows系統(tǒng)電腦,，19”顯示器 ，基于Windows系統(tǒng)的控制軟件

• 電子/半導(dǎo)體器件（Microelectronic/Semiconductor Devices）

• 微/納電機(jī)系統(tǒng) (MEMS/NEMS)

• 自旋電子學(xué) (Spintronics)

• 傳感器 (Sensors)

• 微流控 (Microfluidics)

• 材料科學(xué) (Material Science)

• 生物實(shí)驗(yàn)室芯片（Biological lab-on-a-chip）

• 光子學(xué)（Photonics）

帶有