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KTIMES TECHNOLOGY LIMITED

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當(dāng)前位置:KTIMES TECHNOLOGY LIMITED>>材料表征與鑒定>>表征系統(tǒng)>> Nanotrac waveZeta電位及納米粒度分析儀

Zeta電位及納米粒度分析儀

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號:Nanotrac wave

品       牌:

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:上海市

更新時間:2025-06-15 21:58:27瀏覽次數(shù):2902次

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Zeta電位及納米粒度分析儀
麥奇克(Microtrac Inc.)是世界上Z著名的激光應(yīng)用技術(shù)研究和制造廠商,,其先進(jìn)的激光粒度分析儀已廣泛應(yīng)用于水泥,磨料,,冶金,制藥,,石油,,石化,陶瓷,,軍工等領(lǐng)域,,并成為眾多行業(yè)的質(zhì)量檢測和控制的分析儀器。Microtrac Inc.公司非常注重技術(shù)創(chuàng)新,,近半個世紀(jì)以來,,一直*著激光粒度分析的前沿技術(shù),可靠的產(chǎn)品和強大的應(yīng)用支持及完善的售后服務(wù),,

Zeta電位及納米粒度分析儀

Zeta電位及納米粒度分析儀

納米粒度測量——動態(tài)光背散射技術(shù)
隨著顆粒粒徑的減小,,例如分子級別的大小,顆粒對光的散射效率急劇降低,,使得經(jīng)典動態(tài)光散射技術(shù)的自相關(guān)檢測(PCS)變得更加不確定,。40多年來,Microtrac公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度測量中的應(yīng)用,。作為行業(yè)的先鋒,,早在1990年,超細(xì)顆粒分析儀器UPAUltrafineParticle Analyzer)研發(fā)成功,,*引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運動而產(chǎn)生頻率變化的能譜概念,,快速準(zhǔn)確地得到被測體系的納米粒度分布。2001年,,利用背散射(Back-scattered)和異相多譜勒頻移(HeterodyneDoppler Frequency Shifts)技術(shù),,結(jié)合動態(tài)光散射理論和先進(jìn)的數(shù)學(xué)處理模型,NPA150/250將分析范圍延伸至0.8nm-6.5μm,樣品濃度更可高達(dá)百分之四十,,基本實現(xiàn)樣品的原位檢測,。異相多普勒頻移技術(shù)采用可控參考穩(wěn)定頻率,直接比照因顆粒的布朗運動而產(chǎn)生的頻率漂移,,綜合考慮被測體系的實時溫度和粘度,,較之于傳統(tǒng)的自相關(guān)技術(shù),信號強度高出幾個數(shù)量級,。另外,,新型“Y”型梯度光纖探針的使用,實現(xiàn)了對樣品的直接測量,,極大的減少了背景噪音,,提高了儀器的分辨率。

Zeta電位測量:
美國麥奇克有限公司(Microtrac Inc.)以其在激光衍射/散射技術(shù)和顆粒表征方面的獨到見解,,經(jīng)過多年的市場調(diào)研和潛心研究,,開發(fā)出一代Nanotrac wave微電場分析技術(shù),,融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測量于一體,無需傳統(tǒng)的比色皿,,一次進(jìn)樣即可得到準(zhǔn)確的粒度分布和Zeta電位分析數(shù)據(jù),。與傳統(tǒng)的Zeta電位分析技術(shù)相比,Nanotrac wave采用先進(jìn)的“Y”型光纖探針光路設(shè)計,,配置膜電極產(chǎn)生微電場,,操作簡單,測量迅速,,無需精確定位由于電泳和電滲等效應(yīng)導(dǎo)致的靜止層,,無需外加大功率電場,無需更換分別用于測量粒度和Zeta電位的樣品池,,*消除由于空間位阻(不同光學(xué)元器件間的傳輸損失,,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,,分散介質(zhì)的影響,顆粒間多重散射等)帶來的光學(xué)信號的損失,,結(jié)果準(zhǔn)確可靠,,重現(xiàn)性好。
 

技術(shù)參數(shù):

粒度分析范圍: 0.3nm-10µm

重現(xiàn)性:誤差≤1%

濃度范圍:ppb-40%

檢測角度:180°

分析時間:30-120秒

準(zhǔn)確性:全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子

測量精度: 無需預(yù)選,,依據(jù)實際測量結(jié)果,,自動生成單峰/多峰分布結(jié)果

理論設(shè)計溫度:0-90℃,可以進(jìn)行程序升溫或降溫

兼容性:兼容任何有機溶劑及大多數(shù)酸性或堿性溶液

 

測量原理:

粒度測量:動態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理
分子量測量:水力直徑或德拜曲線
技術(shù):膜電極,,微電場電勢測量,,“Y”型光纖探針設(shè)計,異相多普勒頻移,,可控參比方法,,快速傅立葉轉(zhuǎn)換算法,非球形顆粒校正因子

 

光學(xué)系統(tǒng):

3mW780nm半導(dǎo)體固定位置激光器,,通過梯度步進(jìn)光纖直接照射樣品,,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號,無需校正光路

 

軟件系統(tǒng):

先進(jìn)的Microtrac FLEX軟件提供強大的數(shù)據(jù)處理能力,,包括圖形,,數(shù)據(jù)輸出/輸入,個性化輸出報告,,及各種文字處理功能,,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù),Microsoft Access格式(OLE)等,。體積,,數(shù)量,,面積及光強分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計數(shù)據(jù),。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,,包括口令保護(hù),電子簽名和授權(quán)等,。

 

外部環(huán)境:

電源要求:90-240VAC,,5A,50/60Hz
環(huán)境要求:溫度,,10-40°C
相對濕度:小于95%

 

配置:

有內(nèi)置和外置光纖測量探頭可選

 

 

主要特點:
﹡采用的動態(tài)光散射技術(shù),,引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法
﹡的“Y”型光纖光路系統(tǒng),通過藍(lán)寶石測量窗口,,直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布,,在加載電流的情況下,與膜電極對應(yīng)產(chǎn)生微電場,,測量同一體系的Zeta電位,, 避免樣品交叉污染與濃度變化。
﹡的異相多譜勒頻移技術(shù),,較之傳統(tǒng)的方法,,獲得光信號強度高出幾個數(shù)量級,提高分析結(jié)果的可靠性,。
﹡的可控參比方法(CRM),,能精細(xì)分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度,。
﹡超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計,,減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準(zhǔn)確性,。
﹡的快速傅利葉變換算法(FFT,,Fast FourierTransform Algorithm Method,迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時間,。
﹡膜電極設(shè)計,,避免產(chǎn)生熱效應(yīng),能準(zhǔn)確測量顆粒電泳速度,。
﹡無需比色皿,,毛細(xì)管電泳池或外加電極池,僅需點擊Zeta電位操作鍵,,一分鐘內(nèi)即可得到分析結(jié)果
﹡消除多種空間位阻對散射光信號的干擾,,諸如光路中不同光學(xué)元器件間傳輸?shù)膿p失,樣品池位置不同帶來的誤差,,比色皿器壁的折射與污染,,分散介質(zhì)的影響,,多重散射的衰減等,提高靈敏度,。

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