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北京亞科晨旭科技有限公司
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當前位置:北京亞科晨旭科技有限公司>>化合物半導體-工藝設備>> Centrotherm Activator150高溫退火爐系統(tǒng)

高溫退火爐系統(tǒng)

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號Centrotherm Activator150

品       牌其他品牌

廠商性質生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時間:2024-09-25 16:11:06瀏覽次數(shù):1284次

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產(chǎn)地類別 進口 應用領域 石油,能源,電子/電池
Centrotherm Activator 150 高溫爐設計用于SiC或GaN器件注入后退火。Centrotherm*工藝爐管和加熱系統(tǒng)設,,允許工藝溫度達到 1850 ℃,。此外,,Activator 150 系列的產(chǎn)品可以實現(xiàn)生長石墨烯生長。通過碳化硅升華生長石墨層可以獲得高性能器件,。

Centrotherm 高溫退火爐系統(tǒng)-Activator 150

一、產(chǎn)品簡介

Centrotherm Activator 150 高溫爐設計用于SiCGaN器件注入后退火,。Centrotherm*工藝爐管和加熱系統(tǒng)設,,允許工藝溫度達到 1850 ℃

此外,,Activator 150 系列的產(chǎn)品可以實現(xiàn)生長石墨烯生長。通過碳化硅升華生長石墨層可以獲得高性能器件,。

Centrotherm 新一代SiC工藝爐管的研發(fā)用以滿足新興的150 毫米 SiC工藝,。

Centrotherm Activator 150-5 是為研發(fā)工作而特制的,而Centrotherm Activator 150-50專為大批量生產(chǎn)設計,。

廣泛的工藝范圍實現(xiàn)了對自定義化程序的優(yōu)化, 例如溫度, 氣路系統(tǒng)和壓力。

 

二,、典型應用

SiC器件高溫退火 (注入后)

GaN器件退火

大面積石墨烯生長

SiC表面制備

 

三,、產(chǎn)品特性

性能和優(yōu)勢

高活化

小表面粗糙度

最大溫度可達 1850 ℃ 

 

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