ICP 刻蝕機(jī) ：高密度等離子蝕刻裝置NE-550

特點(diǎn)：

等離子密度與向基板入射的能量能夠單獨(dú)控制,，因此Process window寬,。

均一性好。

離子性蝕刻到radical性蝕刻都能都大幅度控制,。

構(gòu)造簡(jiǎn)單,，維護(hù)性能*。

來自半導(dǎo)體技術(shù)研究所的工藝支持體制,。

CS（Customer’s Support ）解決方案的綜合服務(wù)體制,。

可選Cassette室，提高生產(chǎn)量,。

豐富的Process Application：

1.ISM: Inductively Super Magnetron有磁場(chǎng)ICP型

2.ISM是可以由低電源得到穩(wěn)定均一的放電,，達(dá)到Damage少的蝕刻。

3.使用不揮發(fā)性材料的次時(shí)代memory‐Al2O3,磁性體,，Pt, Ir, PZT, SBTO 等

4.超高頻率器件,，光器件。

‐絕緣膜,，GaAs/AlGaAs(In),AlGaInP,InP,SiC,ZnSe, Sapphire,，GaN，STO/Pt, Au/Pt, W, WSi, Ti, Mo, Ta, BCB, Polyimide,，BST, STO

5.各種傳感器器件等Photo Nic結(jié)晶,。

6.MEMS(micromachine）