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日本日立熒光分布成像系統(tǒng)介紹
日本日立熒光分布成像系統(tǒng)概述
2019年10月23日，日立高新技術公司（TSE:8036，日立高新技術）正式推出熒光分布成像系統(tǒng)“EEM® View”，此系統(tǒng)由日立高新技術公司與日本的大學共同利用機關法人信息•系統(tǒng)研究機構 國立信息學研究所（所長：喜連川優(yōu)，以下簡稱國立信息學研究所）共同研發(fā)而成。
EEM® View可直接安裝到F-7100熒光分光光度計上,，結合樣品的光譜數(shù)據(jù)與CMOS*1相機裝置拍攝的圖像，可同時獲得樣品的熒光圖像和反射圖像,，因此,，對于需要高精度測定的材料、藥物,、食品等領域的研發(fā)與品質管理等十分重要,。
熒光分光光度計經(jīng)過激發(fā)側單色器將白色光分解成單色光，照射到樣品上使樣品發(fā)射出*的熒光,，再經(jīng)發(fā)射側單色器將熒光分解為單色光到達檢測器,，從而測定熒光物質的性質或濃度等。
近年來,，LED照明,、顯示屏等中使用的熒光材料越來越精細，因此在電子材料和工業(yè)材料的性能與特性評價中,，對熒光分光光度計的測定精度要求越來越高,。
此次發(fā)布的熒光分布成像系統(tǒng)“EEM® View”是熒光分光光度計測定專用系統(tǒng)，通過采用積分球*2和CMOS相機裝置,，使用領*技術*3可同時獲得分光圖像和光譜數(shù)據(jù),。
照射的單色光經(jīng)過積分球漫反射獲得均勻的光源，照射樣品,，然后通過CMOS相機裝置拍攝圖像,，再利用融合AI技術的計算系統(tǒng)*4，分別顯示熒光成分和反射成分的圖像,。此外,，這些樣品圖像可以分割成25個小區(qū)域，分別放大顯示每個區(qū)域,，并獲得每個區(qū)域對應的熒光和反射光譜數(shù)據(jù),。在這之前，熒光分光光度計只能獲得樣品的平均光譜數(shù)據(jù),，使用EEM® View不僅可以清晰地看到樣品的反射、熒光光譜,，而且還可以通過圖像確認樣品產(chǎn)生熒光的位置,，獲得特定位置的光譜數(shù)據(jù),，實現(xiàn)了熒光物質更高精度的測定。
隨著“EEM® View”在熒光分析中的應用,，日立高新技術公司勢必將會在以電子材料和工業(yè)材料為主的領域做出重要貢獻,，比如食品檢驗、生命科學,、生物技術等的研發(fā)與品質管理,。
日立高新技術集團以成為科學儀器界的領XIAN品牌為中期戰(zhàn)略目標，全心致力于優(yōu)秀產(chǎn)品的開發(fā),，為制造業(yè)做出更大的貢獻,。作為*、前沿的事業(yè)創(chuàng)新型企業(yè),，日立高新技術集團以成為提供高新技術和解決方案的*I流企業(yè)為目標,，始終從客戶立場出發(fā)，快速滿足客戶和市場需求,。
* 1CMOS（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）：互補金屬氧化物半導體
* 2積分球：內壁涂有高反射涂層的中空球
* 3日立高新技術公司調查結果（截止至2018年12月）
* 4計算系統(tǒng)是國立信息學研究所的佐藤IMARI教授和鄭銀強副教授共同研究的成果,，用于熒光、反射圖像的分離以及各區(qū)域熒光,、反射光譜的計算,。
* EEM：指激發(fā)發(fā)射矩陣，三維顯示激發(fā)波長,、發(fā)射波長,、熒光強度，反映物質熒光特性的分析數(shù)據(jù),。也被稱為三維熒光光譜,、熒光指紋。
* “EEM”是日立高新技術公司在日本的注冊商標,。
日本日立熒光分布成像系統(tǒng)特點
★ 可在不同光源條件下（白色光和單色光）獲得圖像
★ 可利用自主研發(fā)的計算系統(tǒng),，分別顯示熒光圖像和反射圖像
★ 可獲得不同區(qū)域（樶多25個區(qū)域）的光譜信息（熒光光譜、反射光譜）