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反滲透凈水設(shè)備系統(tǒng)一般包括預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透裝置,、后處理系統(tǒng),、清洗系統(tǒng)和電氣控制系統(tǒng)等。預(yù)處理系統(tǒng)一般包括原水泵,、加藥裝置,、石英砂過濾器、活性炭過濾器,、精密過濾器等,。其主要作用是降低原水的污染指數(shù)和余氯等其他雜質(zhì)，達(dá)到反滲透的進(jìn)水要求,。

反滲透裝置主要包括多級高壓泵,、反滲透膜元件、膜殼（壓力容器）,、支架等組成,。其主要作用是去除水中的雜質(zhì)，使出水滿足使用要求,。

后處理系統(tǒng)是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置,。主要包括陰床、陽床,、混床,、殺菌、超濾等其中的一種或者多種設(shè)備,。

清洗系統(tǒng)主要有清洗水箱,、清洗水泵,、精密過濾器組成。當(dāng)反滲透系統(tǒng)受到污染出水指標(biāo)不能滿足要求時,，需要對反滲透進(jìn)行清洗使之恢復(fù)功效。

電氣控制系統(tǒng)是用來控制整個反滲透系統(tǒng)正常運行的,。包括儀表盤,、控制盤、各種電器保護(hù),、電氣控制柜等,。

反滲透時：

溶劑的滲透速率即液流能量N為：N=Kh(Δp－Δπ)式中Kh為水力滲透系數(shù)，它隨溫度升高稍有增大,；Δp為膜兩側(cè)的靜壓差,；Δπ為膜兩側(cè)溶液的滲透壓差。

稀溶液的滲透壓π為：π=iCRT式中i為溶質(zhì)分子電離生成的離子數(shù),；C為溶質(zhì)的摩爾濃度,；R為摩爾氣體常數(shù)；T為相對溫度,。