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勻膠旋涂儀的操作步驟

閱讀:3525      發(fā)布時間:2024-6-24
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勻膠旋涂儀是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上,滴注各類膠液,,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備,,膜的厚度取決于勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度。該設(shè)備主要用于晶片涂光刻膠,。

勻膠旋涂儀的使用步驟:

1,、開機(jī)前準(zhǔn)備:清理殘余物,選擇合適的吸盤,,并將樣品放在吸盤正中央,。

2、開機(jī)與設(shè)定:打開電源,,設(shè)定涂布的時間和轉(zhuǎn)速,,并啟動真空吸附。

3,、涂布:滴加光阻劑,,并啟動涂布過程。

4,、完成涂布后,,關(guān)閉真空和電源,取下樣品,。

本公司提供的L2001勻膠旋涂儀操作簡單,,方便實(shí)用,旋涂均勻,,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,,占地面積小,節(jié)省超凈間的使用面積,,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤,,無需真空泵或充氮?dú)?,就能達(dá)到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂,,尤其是對超薄樣品,,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米,、0.2毫米或更薄時同樣能達(dá)到旋涂效果,。不會出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性,。

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