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勻膠旋涂儀的工作流程概述

閱讀:1799      發(fā)布時間:2022-9-8
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勻膠旋涂儀是把膠均勻地涂在基片上的一種機器,。廣泛應用于微電子、半導體,、新能源,、化工材料、生物材料,、光學,硅片,、載玻片,,晶片,基片,,ITO 導電玻璃等工藝制版表面涂覆等,。

勻膠旋涂儀的勻膠過程包括滴膠,,高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個步驟。

1,、滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,,高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑,。

2,、勻膠轉(zhuǎn)速是勻膠過程中重要的因素?;霓D(zhuǎn)速不僅影響到作用于光刻膠的離心力,,而且還關系到緊挨著基片表面空氣的*湍動和基片與空氣的相對運動速度。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥(溶劑揮發(fā))速率之間平衡的結(jié)果,。隨著光刻膠中溶劑不斷揮發(fā),,粘度越來越大,直到基片旋轉(zhuǎn)作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動,。到這個點上,,膠膜厚度不會隨勻膠時間延長而變薄。

3,、勻膠過程中基片的加速度也會對膠膜的性能產(chǎn)生影響,。因為在基片旋轉(zhuǎn)的第一階段,光刻膠就開始干燥(溶劑揮發(fā))了,。所以準確控制加速度很重要,。

4、勻膠過程中光刻膠的干燥速度不僅取決于光刻膠的自身性質(zhì),,而且還取決于勻膠過程中基片周圍的空氣狀況,。光刻膠的干燥速度與此相似,也受周圍環(huán)境條件的影響,。勻膠的時候,,減小基片上面的空氣的流動,以及因空氣流動引起的湍流,,或者至少保持穩(wěn)定也是十分重要的,。

本公司提供的CIF勻膠旋涂儀有多重安全保護。電磁安全開關,,蓋子打開卡盤停止,,保證安全;蓋子自鎖功能,,防止飛片蓋彈開傷人,;雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,,*大限度保證實驗人員安全,。

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