隨著社會的發(fā)展及技術(shù)的需要,，工業(yè)生產(chǎn)對生產(chǎn)材料的要求也不斷增強(qiáng)，如在微電子封裝工藝中,，電子設(shè)備的小型化,、高精度，對封裝工藝的可靠性提出了相應(yīng)的要求,，高質(zhì)量的封裝技術(shù)可以提高電子產(chǎn)品的使用壽命,。等離子清洗機(jī)是利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài),，也叫做物質(zhì)的第四態(tài),，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài),。等離子體的“活性”組分包括：離子,、電子、原子,、活性基團(tuán),、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等,。等離子清潔機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面,，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的,。
等離子清洗機(jī)的工作流程如下：
(1)被清洗的工件送入真空室并加以固定,，啟動運(yùn)行裝置，開始排氣,，使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)到10Pa 左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度,。一般排氣時間人約需要2min。
(2)向真空室引入等離子清洗用的氣休,，并使其壓力保持在100Pa,。根據(jù)清洗材質(zhì)的不同，可分別選用氧氣,、氫氣,、氬氣或氮?dú)獾葰怏w。
(3)在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,，使氣體被擊穿,，并通過放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體*籠罩在被處理工件,，開始清洗作業(yè),。一股清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘,。
(4)清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出,，同時向真空室內(nèi)鼓入空氣,，并使氣壓升至一個大氣壓。
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