要進(jìn)行等離子處理產(chǎn)品,首先我們產(chǎn)生等離子體,。首先,，單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室,。隨后這些氣體被兩個(gè)電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF) 激活，這些氣體中被激活的離子加速,，開(kāi)始震動(dòng),。這種振動(dòng)“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。
在處理過(guò)程中,等離子體中被激活的分子和原子會(huì)發(fā)出紫外光,，從而產(chǎn)生等離子體輝光,。溫度控制系統(tǒng)常用于控制刻蝕速率。60 - 9d攝氏度溫度之間刻蝕,，是室溫刻蝕速度的四倍,。對(duì)溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統(tǒng)已經(jīng)預(yù)編程并集成到等離子體系統(tǒng)的軟件中間,。設(shè)置保存每個(gè)等離子處理的程序能輕松復(fù)制處理過(guò)程,。
可以通過(guò)向等離子體室中引入不同氣體，改變處理過(guò)程,。常用的等離子處理氣體包括02,、N2,Ar,H2 和CF4。世界各地的大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室,，基本上都使用這五種氣體單獨(dú)或者混合使用,，進(jìn)行等離子體處理。
等離子體處理過(guò)程通常需要大約兩到十分鐘,。當(dāng)?shù)入x子體處理過(guò)程完成時(shí),真空泵去除等離子室中的污染物,，室里面的材料是清潔,消過(guò)毒的,可以進(jìn)行粘接或下一步程序,。
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