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為什么要在高真空下鍍膜?

閱讀：4379 發(fā)布時(shí)間：2020-1-7

為什么要在高真空下鍍膜?

1、真空狀態(tài)下,，膜料的熔點(diǎn)溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多,。對(duì)高熔點(diǎn)的氧化物膜料，在真空狀態(tài)下其熔點(diǎn)要低得多,。也就容易到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量,。
2、真空狀態(tài)下,，真空室中空氣極少,，膜料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞，即分子自由程長(zhǎng),。膜料容易沉積在基片上,。
3、由于真空室中氣體分子少,，因而氧分子,、硫分子等化學(xué)活潑分子也少,，高溫狀態(tài)的膜料分子就不會(huì)與之發(fā)生化學(xué)變化,，從而保證膜層的膜料純度。

若晶振水堵塞后把晶振冷卻水管進(jìn)口,、出口從連接處斷開(kāi),，并把閥門(mén)關(guān)上，用壓縮空氣從進(jìn)口處吹入壓縮空氣,，看出口處是否有異物流出,。

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