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　　等離子清洗機(jī)中常用的工藝氣體包括氧氣,、氬氣、氮?dú)?、壓縮空氣,、氫氣、四氟化碳等,。它利用氣體電離產(chǎn)生的等離子體對工件表面進(jìn)行處理,。不同的工藝氣體會(huì)被用來達(dá)到最佳的處理效果，那么等離子清洗機(jī)中常用的工藝氣體如何選擇呢,？

　　氧氣是等離子清洗常用的活性氣體,，屬于物理+化學(xué)處理方式。電離后產(chǎn)生的離子可以物理轟擊表面,，形成粗糙的表面,。同時(shí)，高活性氧離子可以與斷裂的分子鏈發(fā)生化學(xué)反應(yīng),，形成活性基團(tuán)的親水表面,，從而達(dá)到表面活化的目的。

　　有機(jī)污染物的元素在斷鍵后會(huì)與高活性氧離子發(fā)生化學(xué)反應(yīng),，形成一氧化碳,、二氧化碳、H2O等分子結(jié)構(gòu),。從表面分離,，從而達(dá)到表面清潔的目的,。

　　氧主要用于高分子材料的表面活化和有機(jī)污染物的去除，但不適合易氧化的金屬表面,。真空等離子體中的氧等離子體為淺藍(lán)色,，在局部放電條件下類似白色。放電環(huán)境光線明亮,，肉眼觀察真空室可能沒有放電,。

　　產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

　　真空等離子體表面處理系統(tǒng)主要包括三個(gè)部分：真空腔及真空系統(tǒng)，等離子體發(fā)生器,，控制系統(tǒng),。

　　（A）真空腔及真空發(fā)生系統(tǒng)

　　真空腔固定于機(jī)柜框架內(nèi),，左右兩側(cè)為可拆門,，因此內(nèi)部的真空腔及真空系統(tǒng)的維修是極方便的。真空發(fā)生系統(tǒng)由波紋管,、KF接頭,、真空泵以及油霧過濾器組成，核心部件真空泵（真空泵組）,。

　?。˙）等離子體發(fā)生器

　　等離子體發(fā)生器在20Pa-100Pa間給電極板施加電壓，產(chǎn)生低溫等離子體,。利用高頻轉(zhuǎn)換技術(shù)形成高頻電壓加到電極板上,，當(dāng)真空腔內(nèi)達(dá)到一定真空度時(shí)，產(chǎn)生等離子體放電現(xiàn)象,，放電后電路會(huì)自動(dòng)調(diào)節(jié)電壓到適當(dāng)值,，保證電路正常穩(wěn)定放電。

　?。–）控制系統(tǒng)

　　本系統(tǒng)使用MCGS觸摸屏,、西門子PLC、中文界面,。設(shè)備的工藝流程控制：真空泵啟動(dòng)->擋板閥開啟->達(dá)到設(shè)定的真空度->通入工藝氣體->RF放電->工作時(shí)間到破真空->工作完成,。設(shè)備分自動(dòng)和手動(dòng)兩種方式。