等離子體又叫做電漿,，是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負電子組成的離子化氣體狀物質，它廣泛存在于宇宙中,，常被視為是除去固,、液、氣外,，物質存在的第四態(tài),。等離子體是一種很好的導電體，利用經(jīng)過巧妙設計的磁場可以捕捉,、移動和加速等離子體,。等離子體物理的發(fā)展為材料、能源,、信息,、環(huán)境空間，空間物理,，地球物理等科學的進一步發(fā)展提新的技術和工藝,。
半導體等離子去膠機是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果,?？捎糜诠饪棠z灰化/殘膠去除和表面處理，該設備能在不破壞晶片和其他所用材料的外觀特性、熱力學特性和電氣特性的前提下,，清洗和去除晶片表面的有害雜質,，這對于通用性非常重要，半導體元件的穩(wěn)定性和集成度,。否則會對半導體元器件的性能指標造成嚴重的問題和干擾,，嚴重影響產(chǎn)品合格率，阻礙半導體元器件的整體發(fā)展,。
等離子去膠機主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的,。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài),；氣相物質被吸附在固體表面,；被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相,；反應殘余物脫離表面,。
半導體等離子去膠機頻率|真空度|功率|氧氣流量的調整
將待拆模插入石英舟內平行氣流方向推至真空室兩電極之間，抽真空至1.3Pa,，引入適量氧氣,，保持反應室壓力在1.3-13Pa，加高頻功率,，電極間產(chǎn)生薰衣草輝光放電,。通過調節(jié)功率、流量等工藝參數(shù),，可獲得不同的脫膠率,。當去除膠膜時，輝光消失,。
1,、調整合適的頻率：
頻率越高，氧越容易電離形成等離子體,。如果頻率過高,，使電子振幅短于其平均自由程，電子與氣體分子碰撞的概率就會降低,，導致電離率降低,。通常，公共頻率為13.56MHz和2.45GHz,。
2,、調整合適的真空度：
適當?shù)恼婵斩瓤梢允闺娮舆\動的平均自由程更大，因此從電場中獲得的能量更大,，有利于電離,。此外,，當氧氣流量必須準時時，真空度越高,，氧氣的相對份額越大,，活性顆粒濃度越大。但如果真空度過高,，活性粒子的濃度反而會降低,。
3、調整適當?shù)墓β剩?/div>
關于一定量的氣體,，功率大,，等離子體中活性粒子的密度也高，脫膠速度也快,；但當功率增加到一定值時,，響應消耗的活性離子達到飽和，脫膠速度隨功率的增加不明顯增加,。由于功率大,，襯底溫度高，需要根據(jù)技術要求調整功率,。
4,、氧氣流量的調整：
氧氣流量大，活性顆粒密度大,，脫膠速率加快,；但如果通量過大，離子的復合幾率增加,，電子運動的平均自由程縮短,，電離強度反而降低,。如果回轉室的壓力不變,，流量增加，則還增加了被抽出的氣體量,，也增加了不參與回轉的活性顆粒量,，因此流量對脫膠率的影響不是很顯著。
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