GD90-RF射頻輝光放電質(zhì)譜儀
GDMS技術(shù)使原子化（碎片化）過程與離子化過程分開進(jìn)行,，故而可容易的對ppb至ppt級別的痕量雜質(zhì)進(jìn)行測量。此法還使得GDMS技術(shù)擁有小的基體效應(yīng)且無須特定參照材料,。它可對金屬與合金進(jìn)行全掃描分析,，可對半導(dǎo)體進(jìn)行整體的測量分析，可對多層結(jié)構(gòu)與鍍層進(jìn)行深度剖析,。是包括金屬,、合金,、半導(dǎo)體以及緣體等高純材料的生產(chǎn)與質(zhì)量控制的理想工具。
GD90-RF射頻輝光放電質(zhì)譜儀主要由三部分構(gòu)成：輝光放電離子源,、質(zhì)量分析器,、檢測器。另外還包括一些輔助系統(tǒng),，如真空系統(tǒng),、離子光學(xué)系統(tǒng)、電學(xué)系統(tǒng)和數(shù)據(jù)采集控制系統(tǒng)等,。而GD90-RF射頻輝光放電質(zhì)譜儀具有靈活的雙離子源系統(tǒng)：直流源（DC）和射頻源（RF）,。GD90-RF離子源包含直流源和射頻源，切換簡單方便,，可以直接分析不同尺寸的塊狀,、針狀及粉末樣品。高電離閾值材料離子源室,，有效避免電離時帶來的污染,。
GD90-RF射頻輝光放電質(zhì)譜儀的主要特性：
1、對塊狀,、針狀或粉末狀的導(dǎo)體或非導(dǎo)體樣品進(jìn)行直接分析,；
2、高分辨率,，特別是對于有干擾離子存在的測定而言十分重要,；
3、廣泛的元素涵蓋范圍,，軟件中包括70個元素相關(guān)的干擾離子數(shù)據(jù),；
4、由于原子化和離子化過程發(fā)生在不同區(qū)域,，帶來可忽略的基體效應(yīng),；
5、低至亞ppb級的檢測限,；
6,、具有深度剖析能力；
7,、少的樣品制備過程,。