高科技的殿堂里，半導(dǎo)體芯片無疑是那顆璀璨的明珠,。然而,，這顆明珠的誕生并非一蹴而就，其背后隱藏著無數(shù)精細(xì)且嚴(yán)苛的工藝流程,。而在這眾多環(huán)節(jié)中,，對于水的純凈度要求更是達(dá)到了近乎苛刻的程度。因此,，超純水在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)過程中扮演著至關(guān)重要的角色,。
為何要控制機(jī)能水中的溶解氮？
超純水是微電子行業(yè)的工藝用水,，半導(dǎo)體工廠會大量使用超純水,，主要用于各個制程前后的濕法清洗。除了從超純水中脫除氣體,，為了滿足某些特定半導(dǎo)體機(jī)臺的使用要求,，還需要向超純水中添加氣體，用來滿足機(jī)臺特定的機(jī)能,，這些加氣的超純水又稱為機(jī)能水,。
機(jī)能水通過特定濃度物質(zhì)的添加改變了溶液的ZETA電位（指剪切面的電位，又叫電動電位或電動電勢,，是表征膠體分散系穩(wěn)定性的重要指標(biāo)）,。利用化學(xué)勢的概念改變清洗對象表面離子分布，獲得同種電荷相斥的作用,，從而提高對一些納米級顆粒的去除率,。在CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）系統(tǒng)中，通過化學(xué)反應(yīng)和機(jī)械去除過程的循環(huán)實現(xiàn)晶圓全局或局部的平坦,，隨著晶圓的要求越來越高,，工藝制程越來越復(fù)雜，CMP的清洗由原來的數(shù)十次到目前的上百次或者更高的清洗頻次,，同時在拋光的過程中引入一些特殊的氣體,，從而提高CMP的材料去除率和表面質(zhì)量，降低產(chǎn)品的不良率,。
為了達(dá)到更好的清洗效果,，通常向超純水中添加氮氣，同時也需要對溶氮溶解度進(jìn)行精確控制,。哈希Orbisphere 511系列在線溶解氮分析儀具有精確,、強大的過程監(jiān)測能力,。
如何精準(zhǔn)控制溶解氮？
國內(nèi)某電子廠安裝一臺Orbisphere511 在線溶解氮分析儀（如下所示）,，圖1為某一時間段的數(shù)據(jù),，數(shù)據(jù)長期穩(wěn)定于10~16ppm。
據(jù)現(xiàn)場人員反饋,，HACH溶解氮現(xiàn)場表現(xiàn)優(yōu)異,，維護(hù)量低，每年僅需要做一次維護(hù),。
圖1 Orbisphere 511在線連續(xù)監(jiān)測結(jié)果數(shù)據(jù)圖
哈希Orbisphere 511系列 在線溶解氮分析儀
從Orbisphere511現(xiàn)場應(yīng)用的情況來看,，511系列產(chǎn)品的探頭設(shè)計，可保證傳感器測量準(zhǔn)確,、可靠,、響應(yīng)時間短，內(nèi)置優(yōu)良的溫度補償機(jī)制,，確保了儀器的有廣泛的適用性,，用戶通過該儀器對溶解氮進(jìn)行在線監(jiān)測，實現(xiàn)了機(jī)能水的精確控制,，為用戶的水工藝控制提供了有效的監(jiān)測數(shù)據(jù),，同時保證了用戶后段工藝的穩(wěn)定運行。
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