精細工藝,，從光刻膠開始

光刻膠,，又稱光致抗蝕劑,，一種特殊的光敏物質(zhì),，是微電子和半導體制造中不可或缺的材料，同時也是集成電路制造的核心耗材,。它不僅關(guān)系到產(chǎn)品的最終性能,，更是成品率和可靠性的決定性因素。

在半導體光刻工藝流程中,，包括了脫水烘烤,、旋轉(zhuǎn)涂膠、軟烘,、曝光,、曝光后烘烤、顯影,、堅膜烘烤,、顯影檢查等環(huán)節(jié)，只有使用固含量合適的光刻膠,，才能確保上述流程順利進行,。

比如，在旋轉(zhuǎn)涂膠的環(huán)節(jié)中,，如果使用了固含量偏高的光刻膠,，就會導致涂布后形成相對較厚的薄膜；反之,，則會形成較薄的涂膜,，直接影響了圖案的精細程度和分辨率。又比如,，在顯影環(huán)節(jié),，如果選用了固含量較高的光刻膠，則會大幅增加所需的顯影時間,，降低了生產(chǎn)效率的同時,，也會更容易導致光刻膠曝光后發(fā)生形變或收縮，導致圖案的失真和變形,。

因此,，對于光刻膠研發(fā)生產(chǎn)企業(yè)來說，只有準確快速地測試光刻膠固含量,，才能確保產(chǎn)品質(zhì)量合格,，并符合客戶要求。然而，如果使用傳統(tǒng)的烘箱,，則會面臨光刻膠在進出烘箱時吸水,，導致測試結(jié)果不準、測試效率低（通常需要數(shù)小時）的問題,，無法完全滿足實驗需求,，耽誤生產(chǎn)及研發(fā)進度，給客戶帶來損失,。

面對這樣的挑戰(zhàn),，梅特勒托利多超越系列快速水份測定儀則能完美解決這些問題，同時確保絕佳的測試重復性,，助您輕松應對光刻膠的固含量測定,。

光刻膠固含量測定新革命

梅特勒托利多超越系列快速水份測定儀具有溫和升溫功能,，在設定的時間內(nèi)緩慢升溫至設定的溫度，最大化降低有機溶劑冷凝回流的發(fā)生概率,，也防止光刻膠表面結(jié)膜,，確保測試結(jié)果的準確性。

 

 

 

梅特勒托利多超越系列快速水份測定儀采用環(huán)形鹵素燈加熱，確保樣品始終均勻受熱,；測試過程中,，稱重傳感器不斷記錄樣品重量，并自動判斷恒重,；測試結(jié)束后,，屏幕上自動顯示最終固含量結(jié)果，無需人工計算,，避免出錯,。與傳統(tǒng)的烘箱相比,，用快速水份測定儀還能避免出現(xiàn)樣品在進出烘箱時吸收實驗室空氣中水份的情況,，確保測試結(jié)果始終準確。