【參展信息】智能的粒度分析即將亮相CPHI& PMEC China 2024 制藥機械展

時間：2024-6-20 閱讀：621

展期：2024年6月19日-21日

展館：上海新國際博覽中心

地址：上海市浦東新區(qū)龍陽路2345號

展位：W5F10a

馬爾文帕納科先進的材料及生物物理表征技術(shù)廣泛應(yīng)用于藥物研發(fā)和制藥工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域,，無論是藥物早期開發(fā)還是工藝流程中關(guān)鍵質(zhì)量屬性的控制和優(yōu)化以及合規(guī)性,，馬爾文帕納科都具有豐富的行業(yè)和應(yīng)用經(jīng)驗。不僅助您將新藥快速推向市場,，在藥品整個生命周期中都保持其性能,，最大程度地提高生產(chǎn)和流程效率。

6月19-21日,，馬爾文帕納科將攜粒度儀的最新產(chǎn)品,、納米粒度的自動化解決方案等多種升級產(chǎn)品亮相在上海新國際博覽中心舉行的CPHI & PMEC 2024 世界制藥機械、包裝設(shè)備與材料中國展,，為制藥行業(yè)帶來更智能,、更便捷的測試解決方案。期待您蒞臨展位,，共同探討先進分析測試技術(shù)為醫(yī)藥行業(yè)創(chuàng)造的新質(zhì)生產(chǎn)力,。

W5F10a 馬爾文帕納科展位效果圖

除此之外，您還可以報名參加此次藥機展組織的工廠參觀（路線四）,，乘坐免費大巴來到馬爾文帕納科亞太卓越應(yīng)用中心,，參觀世界級先進實驗室，了解最新的材料表征儀器設(shè)備,。

集合時間：6月18日 13:00-13:30

集合地點：上海新國際博覽中心1號入口大廳集合簽到

參觀時間：6月18日:13:00-16:00

報名通道：長按識別下列圓形碼報名

參觀實驗室

Malvern Panalytical

馬爾文帕納科醫(yī)藥行業(yè)解決方案

原料藥,、輔料質(zhì)量控制
- 原料藥晶型鑒定和多晶型研究
- 原料藥、輔料,、藥物中間體粒度分布檢測
- 原料藥,、輔料顆粒粒形表征
- 高分子藥用輔料
仿制藥制劑開發(fā)
- 口服固體制劑開發(fā)匯總的晶型控制
- 片劑包衣涂布
- 口服固體制劑
- 注射劑
- 經(jīng)口鼻給藥制劑
- 半固體制劑
- 藥物中無機元素雜質(zhì)分析

馬爾文帕納科

展品介紹

原料藥、輔料,、藥物中間體粒度分布檢測

Mastersizer 3000+ 全新升級智能激光粒度儀,，用于原料藥、輔料,、藥物中間體微米級顆粒粒度分布測量,，動態(tài)量程范圍10nm-3500μm，實時測量速度高達10000次/秒,。三大功能亮點將為您帶來全新測試體驗,。智能軟件保證整個測量過程中的數(shù)據(jù)準確性,，大大解決方法開發(fā)和轉(zhuǎn)移上的時間和成本。

鼻噴及吸入制劑粒度分析

Spraytec實時高速噴霧粒度分析儀,，用于吸入制劑和鼻噴制劑的藥品霧滴顆粒粒度實時分析,，測量范圍0.1μm-2000μm，實時記錄高速噴霧的動態(tài)范圍,，以及噴霧裝置的表征和評估,。

納米藥物顆粒大小及Zeta電位

DLS & ELS

Zetaszier Advance系列納米粒度電位儀，適用于蛋白質(zhì),、抗體,、疫苗、脂肪乳,、脂質(zhì)體,、水凝膠、多糖等藥物及其藥物釋放體系的表征,。用于檢測納米級顆粒粒徑及其分布,，Zeta電位，相互作用K_D和B₂₂,，佐劑等電點測試,。

藥物顆粒成像與化學(xué)成分分析

Morphology

Morphologi 4/4-ID 全自動顆粒粒度、粒形和化學(xué)成分分析儀,，靜態(tài)圖像技對0.5μm-1300μm的顆粒進行自動掃描成像,，計算顆粒的粒度和粒形等二十種形貌參數(shù)。集成拉曼光譜對混合組分中不同顆粒進行區(qū)分,，獲得特定成分顆粒的粒度和粒形統(tǒng)計分布

原料藥晶型和多晶型研究

XRD

Empyrean銳影智能衍射儀/Aeris緊湊型X射線衍射儀,，用于粉體、片劑,、液體等API、制劑的多晶型定性及定量表征及結(jié)晶度分析,。高清晰度光學(xué)系統(tǒng)可實現(xiàn)千分級低含量晶型檢出,；透射光路可實現(xiàn)粉體和片劑全體積無損多晶分析；可實現(xiàn)API和制劑的全自動溫濕度原位分析,；高速高通量晶型篩選等,。

01 /Area Overview & Travel

展館位置及交通