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X 射線熒光技術可用于測定多種類型樣品的化學成分

時間:2019-3-21 閱讀:2202
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X 射線熒光 (XRF) 是可用于測定多種類型樣品(包括固體,、液體,、漿料和疏松粉末)化學成分的分析技術。 X 射線熒光還用于確定分層和涂層的厚度和成分,。 它可以分析從鈹 (Be) 到鈾 (U) 的各種元素,,涵蓋從 100 wt% 到百萬分之一以下的濃度范圍。

XRF 是一種可靠的技術,,結合了高精度和準確性以及簡便,、快速的樣品制備等優(yōu)點,。 它可以在要求實現(xiàn)高處理量的工業(yè)環(huán)境下自動完成使用準備,并且提供定性和定量的樣品相關信息,。 這種定性和定量信息的輕松組合還使快速篩選(半定量)分析成為可能,。
 

XRF 是一種原子發(fā)射方法,類似于光發(fā)射光譜 (OES),、ICP 和中子活化分析(伽馬光譜),。 此類方法可以測量由樣品中的帶電原子發(fā)出的“光線”(此情況下為 X 射線)的波長和強度。 在 XRF 中,,來自 X 射線光管主 X 射線光束的輻照會使熒光 X 射線的輻射呈現(xiàn)出樣品中所存在元素的分散能量特征,。 
 

用于樣品 X 射線熒光光譜分離(分散)、識別和強度測量的技術催生了兩種主要類型的光譜儀:波長色散式 (WDXRF) 和能量色散式 (EDXRF) 系統(tǒng),。

 

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