離子去膠機 型號：PR-3
通過等離子體方法,，對陶瓷片,、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設備為單室真空系統(tǒng),，主要由真空系統(tǒng),、氣路系統(tǒng)、電氣系統(tǒng),、射頻電源系統(tǒng),、控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng),、報警系統(tǒng)等部分組成,。
離子去膠機射頻電源采用RF500W電源控制。
氣路系統(tǒng)采用兩臺浮子流量計控制氣體進氣,。
腔室結構：臥式,、純石英
真空室規(guī)格：F210´300mm
限真空：1Pa（環(huán)境濕度≤55%）
真空系統(tǒng):機械泵
大裝片直徑: F4英寸
大裝片容量：4英寸 25片/爐
去膠速率: ～500A/min
去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內)
操作方式:手動方式
用戶可選配全自動控制方式
 | 產品名稱：標準型勻膠機 臺式勻膠機 產品型號：SC-1B |
標準型勻膠機 臺式勻膠機 型號：SC-1B
SC-1B標準型勻膠機主要適用于半導體硅片、晶片,、ITO導電玻璃,、光學玻璃等工藝制版及表面涂覆，各種光刻膠表面膜制備,。
采用變頻技術控制旋涂速度與時間,，有效控制膠的厚度、均一性,?？蓱糜诟餮芯款I域前期研發(fā)及小規(guī)模生產。
主 要 技 術 指 標1. 控制顯示：LED數(shù)字控制器,，用戶可通過控制器進行參數(shù)修改設置
2. 勻膠模式：可同時輸入七組數(shù)值,，即轉速及勻膠時間可任意設置為Ⅰ檔、Ⅱ擋,、……Ⅶ檔,，轉速啟動后先低速運轉（Ⅰ檔），然后自動執(zhí)行Ⅱ檔,、……Ⅶ檔,，直至達到高速運轉。
3．勻膠時間：1～9999s任意時間可設置
4．勻膠速度：0～8000rmp可調
5．旋轉加速度：0～8000rpm/sec 由低速到高速加速時間0.1s～0.5s
6．轉速穩(wěn)定度：±1rmp
7．涂膠均勻性：±3%
8．可鍍膜尺寸：Ф5～Ф150mm（6〞）
9．基片厚度： ≤5mm
配 置 參 數(shù)1．設備配置Ф200mm接膠裝置
2．電機功率：90W，額定轉速8000rmp
3．真空泵：FY-1C旋片式真空泵,，抽速60L/min(用戶可選配無油型真空泵)
4．樣片托：標配1英寸一個,，2英寸一個，其它規(guī)格按要求定制
5．輸入電源： AC220V/240V 50HZ
6．整機功率：100W
7．機身尺寸： 280×360×240mm
8．機身重量：10Kg
自動運動粘度毛細管清洗機 型號： DSL-265H
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