產(chǎn)品名稱：射頻磁控濺射鍍膜裝置 產(chǎn)品型號(hào)：RT-RM-1

射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號(hào)：RT-RM-1

主要用途：本設(shè)備主要用于大專院校研究和開(kāi)發(fā)納米級(jí)單層膜,；如各種硬質(zhì)膜、金屬膜,；也可以是非金屬,、化合物等薄膜材料?？梢赃M(jìn)行直接濺射,，亦可以實(shí)現(xiàn)反應(yīng)濺射。

主要特點(diǎn)：結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)捷、操作簡(jiǎn)便,，真空度維護(hù)高,，安全可靠。

鍍膜機(jī)應(yīng)安裝在干凈無(wú)塵埃,、無(wú)腐蝕性氣體的室內(nèi),，并具備清潔水源、及220V的穩(wěn)定電壓等條件的地方,。

1,、地面的基本水平度要經(jīng)過(guò)調(diào)整，不得高低不平,；

2,、環(huán)境溫度：10℃～30℃；

3,、相對(duì)濕度：不大于75%,；

4、耗水量（進(jìn)水溫度≤25℃,，2.5Kg≥水壓≥1.5Kg）：約0.2T/h,；

5、水質(zhì)要求：

矽酸硬度<6度,，PH值：7－8，電導(dǎo)率：200us/cm,沉積率：<200mg/L,。

6,、電壓： 220V，50H_Z,，

電壓波動(dòng)范圍： 198～231V,；

頻率波動(dòng)范圍：49～51Hz;

7、水壓：0.3～1Kg/cm²或0.03～0.1MPa/cm²;

8,、充入氣體純度99.9%或以上;

9,、鍍膜用耗材純度99.9%或以上。

設(shè)備規(guī)格參數(shù)

1.1,、濺射處理室：

       1,、鐘罩：內(nèi)徑225mm×高度260mm；

       2,、試樣臺(tái)：直徑80mm（Z大）,；

       3、試樣旋轉(zhuǎn)：靜止,；

       4,、擋板：手動(dòng)；

       5、襯底加熱器：不銹鋼加熱器（DC24V）,；

       6,、襯底溫度范圍：室溫～200℃；

       7,、襯底可調(diào)距離：20mm～60mm,；

       8、濺射室限真空：0.5Pa

1.2,、真空系統(tǒng)：

       1,、抽氣系統(tǒng)：由機(jī)械泵組成的一級(jí)真空系統(tǒng)；抽氣速率：4升/S

       2,、真空檢測(cè)：電阻真空計(jì),、電阻規(guī)；

       3,、常用真空度：1～20Pa

       4,、操作：手動(dòng)

1.3、濺射電源：

1,、射頻電源：頻率13.560MHZ,功率：500W,，用表指示；

2,、阻抗匹配器范圍：（2.7～45）Ω-j（0～70）Ω,； 

3、供電：AC 220V,；

4,、冷卻方式：風(fēng)冷；

  1.4,、 磁控靶：

1,、靶材直徑：Ф50mm、 一個(gè)永磁靶,；

2,、靶材厚度：3～6mm；

1.5,、進(jìn)氣系統(tǒng)：2路轉(zhuǎn)子流量計(jì)進(jìn)氣,，

1.6、電源要求：AC 220V  50Hz  10A

1.7,、氣體要求：氬氣--純度99.9%(樣品有特殊要求時(shí)使用高純)

1.8,、冷卻要求：靶體水冷，濺射電源風(fēng)冷

1.9,、體積重量：體積：L550mm×W680mm×H1480mm,；約120kg