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CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設(shè)備,， 傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計理念,。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積， 使用成本低,， 性價比高,， 處理快速高效， 特別適合于大學(xué),， 科研院所和光電企業(yè)實驗室小批量中試生產(chǎn),。

產(chǎn)品特點：

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),，20 個配方程序,，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。

◆  PLC 工控機控制整個清洗過程,，手動,、自動兩種工作模式。

◆  石英真空艙,，真空管路系統(tǒng)采用 316 不銹鋼材質(zhì),，耐腐蝕無污染。

◆  采用質(zhì)量流量計,，實現(xiàn)對氣體輸入精準控制,，改變傳統(tǒng)浮子流量計控制氣體流量不準確問題。

◆  HEPA 高效過濾,，氣體返填吹掃,，防止二次污染,。

◆  60 度傾角操作界面設(shè)計，符合人體功能學(xué),，操作方便,，界面友好。

◆  頂置真空艙,，上開蓋設(shè)計,，下壓式鉸鏈開關(guān)方式，開關(guān)蓋方便,。

◆  采用花灑式多孔進氣方式,，改變傳統(tǒng)等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

◆  上置式 360 度自由水平取放樣品托盤設(shè)計,，符合人體功能學(xué),，操作更方便。

◆  有效清洗面積大,，可清洗最大直徑 8 吋硅片,。

◆  安全保護，艙門打開,，自動關(guān)閉電源,。

技術(shù)參數(shù)：