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貨物所在地：廣東深圳市
所在地： 日本
更新時(shí)間：2024-11-16 21:00:07
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Rigaku ZSX Primus 400 連續(xù)波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專為處理非常大或重的樣品而設(shè)計(jì),。該系統(tǒng)可接受直徑最大為 400 毫米、厚度為 50 毫米和質(zhì)量為 30 千克的樣品,，非常適合分析濺射靶材,、磁盤，或用于多層薄膜計(jì)量或大型樣品的元素分析,。
優(yōu)點(diǎn)
帶有定制樣品適配器系統(tǒng)的 XRF,適應(yīng)特定樣品分析需求的多功能性,，可使用可選適配器插件適應(yīng)各種樣品尺寸和形狀。憑借可變測量點(diǎn)（直徑 30 毫米至 0.5 毫米,，具有 5 步自動(dòng)選擇）和具有多點(diǎn)測量的映射功能以檢查樣品均勻性,。
具有可用相機(jī)和特殊照明的 XRF,可選的實(shí)時(shí)攝像頭允許在軟件中查看分析區(qū)域。
仍保留了傳統(tǒng)儀器的所有分析能力,。
安全性
采用上照射設(shè)計(jì),樣品室可簡單移出,，再不用擔(dān)心污染光路，清理麻煩和增加清理時(shí)間等問題,。
固體,、液體、粉末,、合金和薄膜的元素分析:
濺射靶材組成.
隔離膜：SiO2,、BPSG,、PSG、AsSG,、Si?N?,、SiOF、SiON等,。
高 k 和鐵電介質(zhì)薄膜：PZT,、BST、SBT,、Ta2O5,、HfSiOx
金屬薄膜：Al-Cu-Si、W,、TiW,、Co、TiN,、TaN,、Ta-Al、Ir,、Pt,、Ru、Au,、Ni等,。
電極膜：摻雜多晶硅（摻雜劑：B、N,、O,、P、As）,、非晶硅,、WSix、Pt等,。
其他摻雜薄膜（As、P）,、困惰性氣體（Ne,、Ar、Kr等）,、C（DLC）
鐵電薄膜,、FRAM、MRAM,、GMR,、TMR,；PCM、GST,、GeTe
焊料凸點(diǎn)成分：SnAg、SnAgCuNi
MEMS：ZnO、AlN,、PZT的厚度和成分
SAW器件工藝：AlN,、ZnO、ZnS,、SiO 2（壓電薄膜）的厚度和成分,；Al、AlCu,、AlSc,、AlTi（電極膜）
大樣本分析：最大 400 毫米（直徑），最大 50 毫米（厚度）,，高達(dá) 30 千克（質(zhì)量）
樣品適配器系統(tǒng),，適用于各種樣本量
測量點(diǎn)：30 毫米至 0.5 毫米直徑，5步自動(dòng)選擇
映射能力,，允許多點(diǎn)測量
樣品視圖相機(jī)（可選）
分析范圍：Be - U
元素范圍：ppm 至 %
厚度范圍：sub ? 至 mm
衍射干擾抑制（可選）：單晶襯底的準(zhǔn)確結(jié)果
符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)：SEMI,、CE標(biāo)志
占地面積小，以前型號(hào)的 50% 占地面積
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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