目錄:深圳華普通用科技有限公司>>X射線熒光光譜儀>>日本理學波長色散X射線熒光光譜儀>> ZSX Primus 400日本理學連續(xù)波長色散X射線熒光光譜儀
| 價格區(qū)間 | 面議 | 行業(yè)專用類型 | 地質(zhì)巖礦 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 臺式/落地式 | 應用領域 | 化工,石油,地礦,鋼鐵/金屬,汽車及零部件 |
日本理學連續(xù)波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400產(chǎn)品描述：
Rigaku ZSX Primus 400 連續(xù)波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專為處理非常大或重的樣品而設計,。該系統(tǒng)可接受直徑最大為 400 毫米,、厚度為 50 毫米和質(zhì)量為 30 千克的樣品,，非常適合分析濺射靶材,、磁盤,，或用于多層薄膜計量或大型樣品的元素分析,。
優(yōu)點：
帶有定制樣品適配器系統(tǒng)的 XRF,適應特定樣品分析需求的多功能性，可使用可選適配器插件適應各種樣品尺寸和形狀,。憑借可變測量點（直徑 30 毫米至 0.5 毫米,，具有 5 步自動選擇）和具有多點測量的映射功能以檢查樣品均勻性。
具有可用相機和特殊照明的 XRF,可選的實時攝像頭允許在軟件中查看分析區(qū)域,。
仍保留了傳統(tǒng)儀器的所有分析能力,。
安全性：
采用上照射設計,樣品室可簡單移出，再不用擔心污染光路,，清理麻煩和增加清理時間等問題,。
應用領域：
固體、液體,、粉末,、合金和薄膜的元素分析。
濺射靶材組成,。
隔離膜：SiO2,、BPSG、PSG,、AsSG,、Si?N?、SiOF,、SiON等,。
高 k 和鐵電介質(zhì)薄膜：PZT、BST,、SBT,、Ta2O5、HfSiOx,。
金屬薄膜：Al-Cu-Si,、W、TiW,、Co,、TiN、TaN,、Ta-Al,、Ir、Pt,、Ru,、Au、Ni等,。
電極膜：摻雜多晶硅（摻雜劑：B,、N、O,、P,、As）、非晶硅,、WSix,、Pt等。
其他摻雜薄膜（As,、P）,、困惰性氣體（Ne、Ar,、Kr等）,、C（DLC）。
鐵電薄膜,、FRAM,、MRAM、GMR,、TMR,；PCM、GST,、GeTe,。
焊料凸點成分：SnAg、SnAgCuNi,。
MEMS：ZnO,、AlN、PZT的厚度和成分,。
SAW器件工藝：AlN,、ZnO、ZnS,、SiO 2（壓電薄膜）的厚度和成分,；Al、AlCu,、AlSc,、AlTi（電極膜）。
日本理學連續(xù)波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400技術參數(shù)：
大樣本分析：最大 400 毫米（直徑）,，最大 50 毫米（厚度）,，高達 30 千克（質(zhì)量）
樣品適配器系統(tǒng)，適用于各種樣本量
測量點：30 毫米至 0.5 毫米直徑，5步自動選擇
映射能力,，允許多點測量
樣品視圖相機（可選）
分析范圍：Be - U
元素范圍：ppm 至 %
厚度范圍：sub ? 至 mm
衍射干擾抑制（可選）：單晶襯底的準確結(jié)果
符合行業(yè)標準：SEMI,、CE標志
占地面積小，以前型號的 50% 占地面積
5
化工儀器網(wǎng)