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| 價格區(qū)間 | 面議 | 行業(yè)專用類型 | 地質(zhì)巖礦 |
|---|---|---|---|
| 儀器種類 | 臺式/落地式 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,地礦,冶金,汽車 |
日本理學(xué)連續(xù)波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400產(chǎn)品描述：
Rigaku ZSX Primus 400 連續(xù)波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專為處理非常大或重的樣品而設(shè)計(jì),。該系統(tǒng)可接受直徑最大為 400 毫米,、厚度為 50 毫米和質(zhì)量為 30 千克的樣品,，非常適合分析濺射靶材、磁盤,，或用于多層薄膜計(jì)量或大型樣品的元素分析,。
優(yōu)點(diǎn)：
帶有定制樣品適配器系統(tǒng)的 XRF,適應(yīng)特定樣品分析需求的多功能性，可使用可選適配器插件適應(yīng)各種樣品尺寸和形狀,。憑借可變測量點(diǎn)（直徑 30 毫米至 0.5 毫米,，具有 5 步自動選擇）和具有多點(diǎn)測量的映射功能以檢查樣品均勻性。
具有可用相機(jī)和特殊照明的 XRF,可選的實(shí)時攝像頭允許在軟件中查看分析區(qū)域,。
仍保留了傳統(tǒng)儀器的所有分析能力。
安全性：
采用上照射設(shè)計(jì),樣品室可簡單移出,，再不用擔(dān)心污染光路,，清理麻煩和增加清理時間等問題。
應(yīng)用領(lǐng)域：
固體,、液體,、粉末、合金和薄膜的元素分析,。
濺射靶材組成,。
隔離膜：SiO2、BPSG,、PSG,、AsSG,、Si?N?、SiOF,、SiON等,。
高 k 和鐵電介質(zhì)薄膜：PZT、BST,、SBT,、Ta2O5、HfSiOx,。
金屬薄膜：Al-Cu-Si,、W、TiW,、Co,、TiN、TaN,、Ta-Al,、Ir、Pt,、Ru,、Au、Ni等,。
電極膜：摻雜多晶硅（摻雜劑：B,、N、O,、P,、As）、非晶硅,、WSix,、Pt等。
其他摻雜薄膜（As,、P）,、困惰性氣體（Ne、Ar,、Kr等）,、C（DLC）。
鐵電薄膜,、FRAM,、MRAM、GMR,、TMR,；PCM,、GST、GeTe,。
焊料凸點(diǎn)成分：SnAg,、SnAgCuNi。
MEMS：ZnO,、AlN,、PZT的厚度和成分。
SAW器件工藝：AlN,、ZnO,、ZnS、SiO 2（壓電薄膜）的厚度和成分,；Al,、AlCu、AlSc,、AlTi（電極膜）,。
日本理學(xué)連續(xù)波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400技術(shù)參數(shù)：
大樣本分析：最大 400 毫米（直徑），最大 50 毫米（厚度）,，高達(dá) 30 千克（質(zhì)量）
樣品適配器系統(tǒng),，適用于各種樣本量
測量點(diǎn)：30 毫米至 0.5 毫米直徑，5步自動選擇
映射能力,，允許多點(diǎn)測量
樣品視圖相機(jī)（可選）
分析范圍：Be - U
元素范圍：ppm 至 %
厚度范圍：sub ? 至 mm
衍射干擾抑制（可選）：單晶襯底的準(zhǔn)確結(jié)果
符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)：SEMI,、CE標(biāo)志
占地面積小，以前型號的 50% 占地面積
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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