光刻膠的定義及其成分
光刻膠的定義及其成分
光刻膠的定義:
光刻膠(Photoresist簡(jiǎn)稱PR)又稱光致抗蝕劑,,它是一種對(duì)光敏感的有機(jī)化合物,,它受紫外光曝光后,在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化,。
作用:
a,、將掩膜板上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓表面頂層的光刻膠中,;
b、在后續(xù)工序中,,保護(hù)下面的材料(刻蝕或離子注入),。
光刻膠的主要成分
樹(shù)脂:光刻膠樹(shù)脂是一種惰性的聚合物基質(zhì),是用來(lái)將其它材料聚合在一起的粘合劑,。光刻膠的粘附性,、膠膜厚度等都是樹(shù)脂給的。
感光劑:感光劑是光刻膠的核心部分,,它對(duì)光形式的輻射能,,特別在紫外區(qū)會(huì)發(fā)生反應(yīng)。曝光時(shí)間,、光源所發(fā)射光線的強(qiáng)度都根據(jù)感光劑的特性選擇決定的,。
溶劑:光刻膠中容量zui大的成分,感光劑和添加劑都是固態(tài)物質(zhì),,為了方便均勻的涂覆,,要將它們加入溶劑進(jìn)行溶解,形成液態(tài)物質(zhì),,且使之具有良好的流動(dòng)性,,可以通過(guò)旋轉(zhuǎn)方式涂布在wafer表面。
添加劑:用以改變光刻膠的某些特性,,如改善光刻膠發(fā)生反射而添加染色劑,。