三清儀器GM-60D無(wú)氧烤箱應(yīng)用介紹可定制

三清儀器GM-60D無(wú)氧烤箱是一款專門(mén)設(shè)計(jì)用于高溫?zé)o氧環(huán)境下熱處理的設(shè)備,，適用于要求潔凈,、高精度以及特定氣氛條件的實(shí)驗(yàn)和工業(yè)應(yīng)用。這款烤箱主要應(yīng)用于對(duì)氧化敏感的材料和工藝,，如半導(dǎo)體、光電材料、金屬材料等領(lǐng)域,，確保在無(wú)氧或低氧環(huán)境中進(jìn)行加熱、烘烤等處理,，以避免材料在加熱過(guò)程中發(fā)生氧化,。

GM-60D無(wú)氧烤箱的主要特點(diǎn)：

無(wú)氧環(huán)境控制： GM-60D烤箱特別強(qiáng)調(diào)無(wú)氧或低氧環(huán)境的控制,。通過(guò)專用的氣體流量控制系統(tǒng)和氣體置換技術(shù)，可以保證烤箱內(nèi)部氣氛為無(wú)氧或低氧狀態(tài),，防止材料在加熱過(guò)程中與氧氣反應(yīng),，從而有效避免氧化現(xiàn)象。

高精度溫控系統(tǒng)： 該烤箱配備先進(jìn)的溫控系統(tǒng),，確保箱內(nèi)溫度精確穩(wěn)定,，溫度波動(dòng)小。通常,，溫度范圍可以達(dá)到高溫（如500°C或更高）,，適應(yīng)不同工藝的需求。

均勻的溫度分布： GM-60D無(wú)氧烤箱采用高效的氣流循環(huán)系統(tǒng),，使得烤箱內(nèi)的溫度分布均勻,。均勻的溫度可以保證樣品在加熱過(guò)程中的質(zhì)量一致性，避免由于溫差導(dǎo)致的工藝不穩(wěn)定,。

高效的氣體循環(huán)系統(tǒng)： 設(shè)備內(nèi)配備高效的氣體循環(huán)系統(tǒng),，可以在烤箱內(nèi)部實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的惰性氣體流動(dòng)（如氮?dú)狻鍤獾龋?。這種氣體流動(dòng)可以幫助保持箱內(nèi)的無(wú)氧環(huán)境,，并保證處理過(guò)程中樣品不會(huì)受到空氣中的氧氣影響。

智能化控制面板： GM-60D無(wú)氧烤箱設(shè)有智能化的PLC一體觸控面板,，用戶可以通過(guò)數(shù)字化界面精確控制溫度,、時(shí)間和氣體流量等參數(shù)。溫度和時(shí)間的設(shè)定可以非常精確,，確保整個(gè)熱處理過(guò)程的高效性和一致性,。

高安全性： 為了確保操作安全，GM-60D烤箱配備了多重安全保護(hù)功能,，包括過(guò)溫保護(hù),、氣體泄漏報(bào)警等，確保在使用過(guò)程中操作人員的安全,。

節(jié)能與環(huán)保： 該無(wú)氧烤箱采用高效的熱能管理技術(shù),，能夠在保持高溫處理效果的同時(shí)，減少能量消耗,，具有較好的節(jié)能性,。

廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域：

電子行業(yè)：如半導(dǎo)體封裝處理、IC燒錄等,。

光電材料：用于光學(xué)鏡頭,、濾光片等材料的熱處理。

材料科學(xué)：適用于高溫?zé)o氧環(huán)境下的材料實(shí)驗(yàn)，如金屬材料,、合金的加熱處理,。

航空航天：高溫?zé)o氧處理對(duì)航天材料的表面質(zhì)量要求。

主要技術(shù)參數(shù)（不同物料,，要求方案不同,，參數(shù)工藝要求不同，定制產(chǎn)品不同）：

溫度范圍：常見(jiàn)為常溫至500°C（具體溫度范圍根據(jù)型號(hào)可能有所不同）

溫度控制精度：±1°C 或更高

氣氛控制：可調(diào)節(jié)氮?dú)?、氬氣等惰性氣體流量

內(nèi)部容積：可定制

加熱方式：電加熱

外形尺寸：根據(jù)型號(hào)不同,，尺寸有所差異

三清儀器接受產(chǎn)品定制