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    全反射X熒光光譜儀原理是基于X熒光能譜法，但與X射線(xiàn)能譜形成對(duì)比的是“傳統(tǒng)能譜采用原級(jí)X光束以45°角轟擊樣品,，而TXRF采用毫弧度的臨界角,。由于采用此種近于切線(xiàn)方向的入射角，原級(jí)X光束幾乎可以全部被反射,，照射在樣品表面后,，可以zui大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生，同時(shí)減小了載體的背景和噪聲”,。全反射X熒光光譜儀將全反射和傳統(tǒng)的能量色散集成在同一臺(tái)儀器上,，創(chuàng)新光學(xué)編碼器的步進(jìn)電機(jī)，角度測(cè)量,，軟件控制Mo/W靶可自由切換,，采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測(cè)器,。
    全反射X熒光光譜儀應(yīng)用范圍：可檢測(cè)從Na到Pu所有元素含量,，可進(jìn)行痕量或超痕量元素分析（ppt或pg），廣泛的應(yīng)用在環(huán)境分析（水,、灰塵,、沉積物、大氣懸浮物）,，制藥分析（生物體液和組織樣品中的有害元素）,，法醫(yī)學(xué)（微小證據(jù)分析），化學(xué)純度分析（酸,、堿,、鹽,、溶劑、水,、超純?cè)噭?，油品分析（原油、輕質(zhì)油,、燃料油）,，染料分析（墨水、油漆,、粉末）,，半導(dǎo)體材料分析（揮發(fā)相分解），核材料工業(yè)（放射性元素分析）,。
    全反射X熒光光譜儀主要特點(diǎn)：
     1,、單內(nèi)標(biāo)校正，極大的簡(jiǎn)化了定量分析,，無(wú)基體影響,；
     2、對(duì)于任何基體的樣品可單獨(dú)進(jìn)行校準(zhǔn)和定量分析,；
     3,、多元素實(shí)時(shí)分析，可進(jìn)行痕量和超痕量分析,；
     4,、不受樣品的類(lèi)型和不同應(yīng)用需求影響；
     5,、*的液體或固體樣品的微量分析,，分析所需樣品量小,；
     6,、的檢出限水平，元素分析范圍從鈉覆蓋到钚,；
     7,、的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍；
     8,、無(wú)需任何化學(xué)前處理,，無(wú)記憶效應(yīng)；
     9,、非破壞性分析,，運(yùn)行成本低廉。