全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)主要包括：X射線源,、光路系統(tǒng),、進樣系統(tǒng)、探測器,、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)及其他附件,，下文主要介紹前四部分。
一,、X射線源：由高壓發(fā)生器及射線管組成,。提供初級X射線，對樣品中待測元素進行激發(fā)得到X射線熒光,，其強度正比于初級X射線的強度,。通常，XRD或XRF發(fā)生器便可滿足TXRF的需求,，高壓可達到80kV,、電流可達80mA、整體功率可達3kW或以上,；輸入穩(wěn)定性一般<10%,，輸出穩(wěn)定性<0.01%,。
目前商用TXRF所用X射線管多為Mo或W靶，或是混合靶材,，如GNR的TX 2000全反射X射線熒光光譜儀提供Mo/W混合靶材,。
圖1 Mo/W混合靶材
二、光路系統(tǒng)：為滿足TXRF應(yīng)用需求(入射角,、能量分布等),，需進一步對初級X射線的幾何形狀和光譜分布進行調(diào)節(jié)，主要有光闌,、濾波器,、準直狹縫、單色器等,。
初級X射線具有一定發(fā)散角,，使用準直狹縫即可完成對幾何形狀的調(diào)整。
射線管發(fā)射連續(xù)譜帶中的高能光子激發(fā)效率低于低能光子,，且低能光子的全反射臨界角大于高能光子,。因此，在滿足低能光子全反射條件下,，連續(xù)光譜中的高能光子則不滿足全反射條件,，背景大幅提高，需要進一步濾除高能光子,，通常采用濾波器及單色器來實現(xiàn),。
常用濾波器多采用全反射原理，即低能光子全反射而高能光子發(fā)生散射或吸收,，進而達到濾波目的,，通常有單全反射及雙全反射體之分，如下圖：
圖2 單全反射濾波器
圖3 雙全反射濾波器
單色光激發(fā)是全反射理想的情況,，但僅依靠濾波器等無法實現(xiàn)單色的目的,，因此，采用布拉格反射體的單色器及多種技術(shù)結(jié)合的手段在目前商用儀器中頗為常見,。GNR的TX 2000及HORIZON兩款全反射X射線熒光光譜儀均可提供雙全反射光路,、多層Si/W單色器(TX 2000還可實現(xiàn)TXRF及常規(guī)XRF的切換)，如下圖：
圖4 光路示意圖
三,、進樣系統(tǒng)：提供樣品載體,，滿足全反射條件、完成自動進樣操作,，多為石英玻璃,、有機玻璃等。
圖5 樣品臺
圖6 樣品載體
四,、探測器：作為數(shù)據(jù)讀出的核心部件,，需要有較高的能量分辨率,、較小的熱效應(yīng)等特性，主要有半導(dǎo)體探測器,、硅漂移探測器及位敏探測器,，目前商用儀器多使用硅漂移探測器(SDD)，GNR即采用半導(dǎo)體制冷的SDD探測器,。
圖7 探測器
意大利GNR公司是一家老牌的歐洲光譜儀生產(chǎn)商,，其X射線產(chǎn)品線誕生于1966年，經(jīng)過半個多世紀的開發(fā)和研究,，該產(chǎn)品線已經(jīng)擁有眾多型號滿足多個行業(yè)的分析需求,。
X射線衍射儀（XRD）可測試粉末、薄膜等樣品的晶體結(jié)構(gòu)等指標,，多應(yīng)用于分子結(jié)構(gòu)分析及金屬相變研究；而全反射X熒光光譜儀（TXRF）的檢測限已達到皮克級別,，其非破壞性分析特點應(yīng)用在痕量元素分析中,，涉及環(huán)境、醫(yī)藥,、半導(dǎo)體,、核工業(yè)、石油化工等行業(yè),；為迎合工業(yè)市場需求而設(shè)計制造的專用殘余應(yīng)力分析儀,、殘余奧氏體分析儀，近年來被廣泛應(yīng)用在制造材料檢測領(lǐng)域,，其操作的便捷性頗受行業(yè)青睞,。
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