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C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對準(zhǔn)光刻機(jī)
主要用途 主要用于中小規(guī)模集成電路,、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn),。
由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)優(yōu)良,,找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片,、陶瓷片,、銅片、不銹鋼片,、寶石片等的曝光,。
(1) 這是一臺雙面對準(zhǔn)單面曝光的光刻機(jī);
(2) 這臺機(jī)器又能完成普通光刻機(jī)的任何工作,;
(3) 同時又是一臺檢查雙面對準(zhǔn)精度的檢查儀,。
C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對準(zhǔn)光刻機(jī)主要性能指標(biāo)
(1) 高均勻性LED曝光頭。
光強(qiáng)≤20mw,;曝光面積:100mm×100mm
曝光不均勻性≤3%
曝光強(qiáng)度≥30mW/cm2可調(diào)
紫外光束角≤3°
紫外光中心波長365nm,、404nm、435nm可選
紫外光源壽命:≥2萬小時
電子快門精準(zhǔn)控制
對準(zhǔn)精度1微米,、曝光精度1微米,、套刻精度1微米
(2) 觀察系統(tǒng)為上下各兩個單筒顯微鏡上裝四個CCD攝像頭通過視屏線連接計算機(jī)到液晶顯視屏上。
a,、 單筒顯微鏡為0.7X~4.5X連續(xù)變倍顯微鏡,;
b、 CCD攝像機(jī)靶面對角線尺寸為:1/3″,6mm,;
c,、 采用19″液晶監(jiān)視器,其數(shù)字放大倍率為19÷1/3=57倍,;
d,、 觀察系統(tǒng)放大倍數(shù)為:0.7×57≈40倍(最小倍數(shù))
4.5×57≈256(最大倍數(shù))或(91倍~570倍)
e、 右表板上有一視屏轉(zhuǎn)換開關(guān):向左為下二個CCD,,向右為上二個CCD,。
(3) 計算機(jī)硬軟件系統(tǒng):
a、鼠標(biāo)單擊“開始對準(zhǔn)",,能將監(jiān)視屏上的圖形記憶下來,,并處理成透明的,以便對新進(jìn)入的圖形進(jìn)行對準(zhǔn),;
b,、鼠標(biāo)雙擊左面或右面圖形,就分別全屏顯示左或右面圖形,。
(4) 非常特殊的板架裝置:
a,、該裝置能分別裝入152×152板架,對版進(jìn)行真空吸附,;
b,、該裝置安裝在機(jī)座上,,能圍繞A點作翻轉(zhuǎn)運動,相對于承片臺而言作上下翻轉(zhuǎn)運動,,以便于上下版和上下片,;
c、該裝置來回反復(fù)翻轉(zhuǎn),,回到承片臺上平面的位置,,重復(fù)精度為≤±1.5µ;
d,、該裝置具有補(bǔ)償基片楔形誤差之功能,,保證版下平面與片上平面之良好接觸,以便提高曝光質(zhì)量,。
(5) 承片臺調(diào)整裝置:
a,、 配備有Φ75、Φ100承片臺各一個,,這二種承片臺有二個長方孔,,下面二個CCD通過該孔能觀察到版或片的下平面,;
b,、 承片臺能作X、Y,、Z,、θ運動,X,、Y,、Z可作±5mm運動,θ運動為±5°,;
c,、 承片臺密著環(huán)相對于版,能實現(xiàn)“真空密著":
真空密著力≤-0.05Mpa為硬接觸,;
真空密著力≤-0.05Mpa~-0.02Mpa為軟接觸,;
真空密著力≤-0.02Mpa為微力接觸;
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