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C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)

C-43型國(guó)產(chǎn)高精度光刻機(jī)主要用途是在中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件和聲表面波器件的研制和生產(chǎn)中使用,。C-43的出色之處在于其優(yōu)良的找平機(jī)構(gòu),，這使得它適用于對(duì)不同類(lèi)型的材料進(jìn)行曝光，包括硅片,、玻璃片,、陶瓷片、銅片,、不銹鋼片和寶石片等,。

C-43型國(guó)產(chǎn)高精度光刻機(jī)的工作方式是一次性光刻曝光，即一次完成曝光過(guò)程,。以下是其主要技術(shù)指標(biāo)：

配置壹件承片臺(tái),，其尺寸可以根據(jù)用戶需求進(jìn)行制造。

曝光頭采用多點(diǎn)光源,，具備以下特性：

出射光斑直徑不超過(guò)110mm,。

在直徑為100mm的范圍內(nèi)，光的不均勻性小于±4%,。

能夠在真空密封條件下進(jìn)行曝光,。

曝光時(shí)間可以通過(guò)0.1～999.9秒的時(shí)間繼電器進(jìn)行設(shè)定。

汞燈的位置可以通過(guò)精密的x,、y、z調(diào)節(jié)裝置進(jìn)行調(diào)整，分別可以調(diào)節(jié)±5毫米,。

具備風(fēng)扇冷卻裝置,。

分辨率不低于1μm。

具備真空吸片功能,。

具備真空密封和反吹氣的功能,，通過(guò)調(diào)節(jié)密封真空的大小可以實(shí)現(xiàn)硬接觸曝光（密封真空≤-0.05 Mpa）、軟接觸曝光（密封真空在-0.05Mpa～-0.02Mpa之間）和微力接觸曝光（密封真空≥-0.02Mpa）,。

C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)主要配置：

一臺(tái)多點(diǎn)光源曝光頭,，支持一次性曝光。

曝光面積不小于φ100mm,。

曝光不均勻性小于±4%,。

曝光強(qiáng)度不低于15mw。

曝光分辨率不高于2μm,。

曝光模式為單面曝光,。

控制膜版尺寸為5英寸。

基片尺寸為100mm×100mm,，厚度不超過(guò)5mm,。

曝光燈功率為350W。

曝光定時(shí)范圍為0～999.9秒,，可調(diào),。

電源要求為單相AC 220V 50Hz，功耗不超過(guò)1kW,。

需要潔凈壓縮空氣壓力不低于0.4Mpa,。

可以實(shí)現(xiàn)真空度在-0.07Mpa～-0.09Mpa之間。

尺寸為700×650×1200毫米（長(zhǎng)×寬×高）,，重量約為110kg,。

備件包括一臺(tái)真空泵、一只汞燈和15米φ8氣管,。