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當前位置:> 供求商機> 升降式光化學反應儀JP-GHX-XF2
光化學反應儀主要特征:
●光源控制器,。
●雙層石英冷阱,,可通入冷卻水循環(huán)以避免光源溫度過高受損。
●調(diào)節(jié)升降臺高度調(diào)節(jié)光照強度,。
●反光罩可使樣品充分接受光照,。
●冷卻水循環(huán)裝置制冷量:800W。
●冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有底部排液閥,。
●箱體內(nèi)部為黑色,,以降低光反射。 箱體后部有2個冷卻水進出口,。
光化學反應儀技術(shù)參數(shù):
★久平光源控制器,,可供汞燈(1000W或500W、400W,、300W,、250W)、氙燈(1000W或500W,、300W),、金鹵燈(500W)等多種光源使用。
★雙層石英冷阱,,可通入冷卻水循環(huán)以避免光源溫度過高受損
★調(diào)節(jié)升降臺高度調(diào)節(jié)光照強度,。
★ 反光罩可使樣品充分接受光照。
光化學反應儀產(chǎn)品配置:
久平專用光源控制器JP-GHX-XF2:1臺,,石英冷阱:1只,,燈:1支(汞燈、氙燈,、金鹵燈 可選)
反光罩一個,,升降臺一個,支架一個,,冷卻水循環(huán)裝置:1臺,,暗箱:1臺,,防紫外線眼鏡:1個
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