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升降式光化學反應儀JP-GHX-XF1
  • 升降式光化學反應儀JP-GHX-XF1

貨物所在地：江蘇無錫市

更新時間：2025-04-30 10:36:11

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●光源控制器。
●雙層石英冷阱,，可通入冷卻水循環(huán)以避免光源溫度過高受損,。
●調(diào)節(jié)升降臺高度調(diào)節(jié)光照強度。
●反光罩可使樣品充分接受光照,。
●冷卻水循環(huán)裝置制冷量：800W,。
●冷卻水循環(huán)裝置設有底部排液閥。

光化學反應儀主要特征:
●光源控制器,。
●雙層石英冷阱,，可通入冷卻水循環(huán)以避免光源溫度過高受損。
●調(diào)節(jié)升降臺高度調(diào)節(jié)光照強度,。
●反光罩可使樣品充分接受光照,。

●冷卻水循環(huán)裝置制冷量：800W。

●冷卻水循環(huán)裝置設有底部排液閥,。


光化學反應儀技術參數(shù):
★久平光源控制器,，可供汞燈（1000W或500W、400W,、300W,、250W）、氙燈（1000W或500W,、300W）,、金鹵燈（500W）等多種光源使用。
★雙層石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)以避免光源溫度過高受損
★調(diào)節(jié)升降臺高度調(diào)節(jié)光照強度,。
★ 反光罩可使樣品充分接受光照,。
光化學反應儀產(chǎn)品配置：
久平專用光源控制器JP-GHX-XF1：1臺，石英冷阱：1只,，燈：1支(汞燈,、氙燈、金鹵燈 可選）
反光罩一個,，升降臺一個,，支架一個，冷卻水循環(huán)裝置：1臺
選配：擋光罩,、暗箱



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