ICP–MS屬精密儀器,，維修及日常維護(hù)時(shí)必須嚴(yán)格遵照儀器使用規(guī)程進(jìn)行,。正確的使用和維護(hù)保養(yǎng)儀器不但能夠提高分析結(jié)果的準(zhǔn)確性，還能夠延長(zhǎng)儀器的使用壽命,，減少故障率,，保障分析檢測(cè)工作的順利進(jìn)行。

1.靈敏度偏低

a,、調(diào)用的方法文件是否正確,；

b、調(diào)試溶液是否正確,；

c,、進(jìn)樣管、霧化器連接是否正常,，有無(wú)漏氣,、堵塞現(xiàn)象；

d,、采樣錐,、截取錐、炬管是否出現(xiàn)污漬,，需要清洗,；

e、依次對(duì)以下項(xiàng)目作優(yōu)化調(diào)試：霧化器流量,、透鏡電壓或自動(dòng)離子透鏡,、X-Y調(diào)節(jié)、雙檢測(cè)器優(yōu)化,、質(zhì)量軸校準(zhǔn),；

f、完成d項(xiàng)后,，需要做儀器性能指標(biāo)的全套優(yōu)化項(xiàng)目,，以獲得其最佳校準(zhǔn)值。

2.標(biāo)準(zhǔn)溶液精密度差

a,、蠕動(dòng)泵管連接是否正常,，有無(wú)漏氣,、堵塞現(xiàn)象；

b,、霧化器的霧化效率情況,，檢查霧化氣流的暢通性和均勻性；

c,、炬管是否較長(zhǎng)時(shí)間未清洗,，存在污漬。

3.氧化物較高

a,、清潔霧室和霧化器,，確保霧化氣流暢通無(wú)阻；

b,、清洗采樣錐和截取錐,，并觀察其孔徑有無(wú)變形，必要時(shí)更換,。

4.雙電荷離子偏高

a、檢查調(diào)試溶液是否被污染,；

b,、采樣錐和截取錐的O形圈變形，引起漏氣,。

5.本底值偏高

a,、真空度是否較前期偏差；

b,、近期是否拆卸過(guò)真空系統(tǒng),，排除安裝時(shí)可能存在的泄漏點(diǎn)；

c,、考慮調(diào)節(jié)電子參數(shù),。

6.線性不好

a、檢查空白溶液,、標(biāo)準(zhǔn)溶液是否正常,，排除污染；

b,、重新優(yōu)化雙檢測(cè)器,。

7.點(diǎn)不著火

a、RF電纜線連接是否正常,；

b,、氬氣壓力是否達(dá)到適用范圍；

c,、真空度是否達(dá)到點(diǎn)火壓力要求,；

d,、炬管連接處密閉性能是否正常，檢查O形圈,，避免變形和松動(dòng),；

e、氬氣純度及氣路連接是否達(dá)到要求,；

f,、霧室廢液排出是否正常，避免堵塞,；

g,、檢查點(diǎn)火線圈的清潔度，清潔污漬,。

8.真空系統(tǒng)真空度達(dá)不到

a．點(diǎn)火后真空系統(tǒng)真空度達(dá)不到,，檢查采樣錐和截取錐O形圈是否漏氣；

b．點(diǎn)火前真空系統(tǒng)真空度變差,，提示真空泵需要保養(yǎng),。

9.點(diǎn)火后，水溫偏高

a,、冷卻循環(huán)水設(shè)備的電源未開(kāi),；

b、冷卻水溫度未設(shè)置在正常值范圍,；

c,、冷卻循環(huán)水設(shè)備制冷效果欠佳(可能漏水)；

d,、水路管道堵塞或者漏水,；

e、冷卻循環(huán)水設(shè)備的濾網(wǎng)堵塞,；

f,、冷卻循環(huán)水設(shè)備故障。

10.儀器無(wú)法聯(lián)機(jī)

a,、連接電纜線是否脫落,；

b、關(guān)閉等離子體,、真空和儀器主機(jī),，重啟計(jì)算機(jī)。

賽默飛iCAP RQ ICP-MS痕量元素分析,，高通量實(shí)驗(yàn)室的完整痕量元素分析解決方案可以擴(kuò)展您的分析能力,，iCAP RQ ICP-MS痕量元素分析按照用戶意見(jiàn)設(shè)計(jì)的硬件和軟件于一體，以提高生產(chǎn)率和耐用性,。操作簡(jiǎn)單且易用,。