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全譜ICP光譜儀的基本原理和產(chǎn)品配置特點說明
全譜ICP光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術(shù),，采用全數(shù)字化技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù),，采用真空光室設計及全數(shù)字激發(fā)光源,、CMOS檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng),，使儀器具有較高的性能、較低檢出線,、長期的穩(wěn)定性和重復性,。
全譜ICP光譜儀的基本原理：
根據(jù)被測元素的原子或離子，在光源中被激發(fā)而產(chǎn)生特征輻射,，通過判斷這些特征輻射的存在及其強度大小,，對各個元素進行定性和定量分析。
ICP發(fā)射光譜分析過程主要分為三步,，即發(fā)射,、分光和檢測。
利用等離子體發(fā)射光源（ICP）使式樣蒸發(fā)氣化,、離解或分解成原子態(tài),，原子可能進一步電離成離子態(tài)，原子及離子在光源中激發(fā)發(fā)光,；
利用光譜儀將光源發(fā)射的光分解為按波長排列的光譜,；
利用光電器件檢測光譜，按測定得到的波長對式樣進行定性分析,，按發(fā)射強度進行定量分析,。
全譜ICP光譜儀的產(chǎn)品配置及特點：
1、采用獨立特點設計的真空光室可準確測定非金屬元素中C,、P,、S以及各種合金元素含量，測定結(jié)果準確,，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性較佳,。
2,、獨立特點的真空光學室結(jié)構(gòu)設計，使真空室容積更小,，抽真空速度不到普通光譜儀的一半,。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護方便快捷。
3,、光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描,，自動光路校準，確保譜線接收的正確性,，免除繁瑣的波峰掃描工作,。
4、獨立特點的激發(fā)臺及氬氣氣路設計,，大大降低了氬氣使用量,。靈活的樣品夾設計，以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析,。
5,、不增加硬件設施的情況下，即可實現(xiàn)多基體分析,。相比光電倍增管光譜儀可大大降低客戶使用成本及使用范圍,。
6、采用國際較先進的噴射電及技術(shù),，在激發(fā)狀態(tài)下,，電及周圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸,，提高激發(fā)精度,。