OAI INSTRUMENTS是業(yè)內(nèi)生產(chǎn)可靠并精密設(shè)備的MEMS，半導(dǎo)體,，納米技術(shù),，潔凈室自動化和紫外線光測量的優(yōu)秀制造商。OAI系統(tǒng)可同時用于研發(fā)和生產(chǎn)半導(dǎo)體,，MEMS和微流體裝置,。從光罩對準(zhǔn)和UV光源UV電力儀表，OAI是在同行業(yè)中的*者超過35年,。OAI光功率計以其測量精度,，重復(fù)性著稱，測量數(shù)據(jù)符合美國NIST標(biāo)準(zhǔn),，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻能量測量及控制,。OAI INSTRUMENTS光刻機

OAI INSTRUMENTS光刻機產(chǎn)品范圍：

美國OAI INSTRUMENTS曝光機,、OAI INSTRUMENTS光刻機、OAI INSTRUMENTS光源,、OAI INSTRUMENTS,、OAI INSTRUMENTS光功率計、OAI INSTRUMENTS分析儀

主要型號：

Model 306,、Model 308,、Model 311、Model 316,、Model 317,、Model 356、Model 357,、Model 358,、Model 457、Model 458,、Model 459

美國OAI INSTRUMENTS Model 800半自動光刻機簡介：

光刻方式：接近式,，軟，硬,，真空接觸式

曝光距離：0-3000μm

間隙調(diào)節(jié)步進：1um

機械精度：1.5um

光刻精度：軟接觸2um,硬接觸小于1um

美國OAI INSTRUMENTS Model 6000全自動光刻機技術(shù)規(guī)格：

光刻方式：接近式,，軟，硬,，真空接觸式

基底尺寸：2-12寸晶圓或者最大200mm方形

曝光分辨率：

真空接觸:0.5-0.8um

硬接觸:0.8-1.0um

軟接觸:1.0-3.0um

接近式(20um 間隙):3.0um

曝光均勻性：優(yōu)于±3%

對準(zhǔn)精度：頂面0.5um,，底面1.0um（選件）

產(chǎn)量：180片/小時最大

天津賽力斯自動化科技有限公司是一家集研發(fā)、工程,、銷售,、技術(shù)服務(wù)于一體的現(xiàn)代化企業(yè)，是國內(nèi)自動化領(lǐng)域競爭力的設(shè)備供應(yīng)商,。公司主要經(jīng)營歐美和日韓 等發(fā)達國家的機電一體化設(shè)備,、高精度分析檢測儀器、環(huán)境與新能源工業(yè)設(shè)備及電動工具等工控自動化產(chǎn)品,。 憑借專業(yè)的技術(shù)與商務(wù)團隊,， 公司在為客戶帶來優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品的同時還可提供自動化工程技術(shù)服務(wù)及成套解決方案。