等離子清洗(Plasma)效果評(píng)估之水滴角測(cè)試儀
水滴角測(cè)試儀可以有效評(píng)估等離子清洗(Plasma)前后的表面處理效果,。水滴角測(cè)量?jī)x是一種專業(yè)的分析測(cè)量?jī)x,,它使用蒸餾水作為探測(cè)液,,并利用水的表面張力的高靈敏度來(lái)評(píng)估固體材料的表面自由能或固體材料與水的潤(rùn)濕角。
半導(dǎo)體芯片行業(yè)特別是晶圓制程中對(duì)于清凈度的要求非常高,,只有符合要求的晶圓才可視為合格品,。作為測(cè)試等離子清洗效果評(píng)估的手段,水滴角測(cè)量?jī)x是評(píng)估晶圓品質(zhì)的有效的工具,。近幾年中國(guó)的芯片行業(yè)得到了迅速發(fā)展,,因而,對(duì)于水滴角的測(cè)試提出了更高要求,。
根據(jù)水滴角測(cè)試基本原理:固體樣品表面因本身存在的表面粗糙度,、化學(xué)多樣性、異構(gòu)性的等因素,,固體表面的接觸角值或水滴角值均體現(xiàn)為左,、右、前,、后的不一致,;因而,水滴角測(cè)量?jī)x器的算法必須采用符合界面化學(xué)的基本原理并能夠?qū)崿F(xiàn)一鍵快速測(cè)量。
測(cè)試芯片半導(dǎo)體的應(yīng)用過(guò)程的技術(shù)要求:
1,、由于芯片納米級(jí)的工藝,,如12納米或7納米制程時(shí),且結(jié)構(gòu)是多樣的,,方向是多樣的,,因而,異構(gòu)性以芯片或晶圓制程中尤其突出,。進(jìn)而,,要求水滴角測(cè)量?jī)x能夠拍照、截圖,、光學(xué)視頻錄像等功能,。
2、水滴角測(cè)量?jī)x的應(yīng)用物性要求能夠敏感的捕捉到微滴(盡量為1uL以內(nèi),,采用超細(xì)針頭)小范圍內(nèi)的左,、右、前,、后由于清潔度效果不好導(dǎo)致的角度的微小變化,。角度值明顯的出現(xiàn)了左、右角度值的偏差,,說(shuō)明樣品表面是不干凈的,。而第二張水滴角的角度圖片則顯示左、右角度值接近度比較高,,清潔度比較好,。
綜合如上,我們可以發(fā)現(xiàn),,對(duì)于芯片或晶圓制程來(lái)講,,水滴角的應(yīng)用除了用于測(cè)試等離子清洗(Plasma)的效果外,還有一個(gè)更為重要的應(yīng)用是評(píng)估何種情況下,,晶圓的粘附力或表面自由能而特別是后者的應(yīng)用,,目前來(lái)講,中國(guó)的芯片制造廠還沒(méi)有像國(guó)外的生產(chǎn)廠那個(gè)引起足夠的重視,。